微透鏡陣列注射壓縮工藝與模具技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、聚合物微透鏡陣列是微光學系統(tǒng)中重要的光學元件之一。注射成型的微透鏡陣列存在殘余應力大的問題,影響了聚合物微透鏡陣列在高端光學產(chǎn)品中應用。注射壓縮成型方法能有效解決制品中的殘余應力問題。本文針對光學元件微透鏡陣列,建立模具實驗平臺,采用理論分析、正交試驗法和單因素試驗法,分別應用Moldflow/ICM注壓模塊進行仿真分析和光彈性實驗法研究工藝參數(shù)對聚合物微透鏡陣列殘余應力的影響,對聚合物微透鏡陣列批量化制造具有重要的理論意義和應用價值。

2、
  首先建立了注射壓縮成型分析模型,通過正交試驗分析,應用Moldflow/ICM注壓模塊仿真分析,揭示了微透鏡陣列的殘余應力分布規(guī)律,通過方差分析得到模具溫度、壓縮延遲時間對殘余應力影響顯著。采用單因素分析法,仿真研究了模具溫度、熔體溫度、壓縮速度、壓縮距離、壓縮延遲時間和壓縮壓力對微透鏡陣列殘余應力的影響。
  分析了壓縮框式注射壓縮方式設計理念,發(fā)現(xiàn)了前人在壓縮框式注射壓縮方式模具設計中的錯誤,確定了微透鏡陣列注射壓

3、縮模具設計原則,在模具結(jié)構(gòu)設計方面,重點解決了壓縮距離與制件的厚度、壓縮彈簧和壓縮框式閉合,壓縮機構(gòu)和頂出機構(gòu)三方面的協(xié)同工作問題;采用單點金剛石加工技術,制造了微透鏡陣列微結(jié)構(gòu)模芯,建立了注射壓縮成型模具實驗平臺。
  采用單因素實驗法進行注射壓縮成型實驗,研究了6個工藝參數(shù)對微透鏡陣列殘余應力的影響。采用應力-光學定律將測量所得光程差,計算得到平均殘余應力。研究結(jié)果表明:微透鏡陣列殘余應力隨模具溫度、壓縮速度的增大而降低,隨熔

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