兩維并聯(lián)雕刻機工作臺研究.pdf

1、該文提出了兩種平面兩自由度并聯(lián)平臺:2RRR型和2RPR型(前者的驅動副為轉動副,后者的驅動副為移動副),它們來源于有較多研究的3RRR型和3RPR型并聯(lián)機構,系將其中的某個自由度加以約束而得到.該文以2RRR型為主進行了深入研究.他們皆可應用于小型雕刻機的工作臺. 運動學分析是研究工作的基礎,因此成為該文的重要部分.該文得到了兩種平臺的正反運動學解的解析表達式.其中2RRR型平臺的反向運動學解有4組,正向運動學解有兩組;而2RPR型平

2、臺的反向運動學解是唯一的,正向運動學解有兩組.由此可見,2RPR型平臺較2RRR型平臺控制更容易. 奇異性分析是并聯(lián)運動學機器的又一個關鍵問題.該文鑒于所得到的正向和反向運動學解的解析表達式,進一步獲得了2RRR型并聯(lián)平臺的完整奇異性條件,分為三種情況,由此為下一步物理樣機的研制和控制奠定了堅實的基礎.為了清楚地觀察奇異形位的特征,該文還得到了奇異表達式的多項式形式.在奇異分析和工作空間分析的基礎上,繪制了奇異曲線和平臺的工作空間邊界.