用交流電源代替直流電源就構(gòu)成了交流濺射系統(tǒng)，由于常用的交流電源的頻率在射頻段，如1356MHZ，所以稱為射頻濺射。在直流射頻裝置中如果使用絕緣材料靶時，轟擊靶面得正離子會在靶面上累積，使其帶正電，靶電位從而上升，使得電極間的電場逐漸變小，直至輝光放電熄滅...
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第四章真空濺射鍍膜,VACUUMSPUTTERINGCOATING,教學(xué)重點濺射鍍膜原理；磁控濺射靶；靶的磁場分布計算；典型鍍膜機(jī),41濺射技術(shù),SPUTTERINGTECHNIQUE,1）定義濺射用荷能粒子（氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象及過程。被轟擊物體處于負(fù)電...
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聚焦離子束（FIB）濺射1聚焦離子束（FIB）濺射題目題目AREVIEWOFFOCUSEDIONBEAMSPUTTERING作者作者M(jìn)OHAMMADYEAKUBALIWAYNEHUNGFUYONGQI期刊期刊INTERNATIONALJOURNALOFPRECISIONENGINEERINGMANUFACTURINGVOL11NO1PP157170期刊日期期刊日期FEBRUARY2010157綜述了聚焦...
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1磁控濺射鍍膜原理及工藝摘要真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術(shù)發(fā)展來的磁控濺射鍍膜的原理及相應(yīng)工藝的研究。關(guān)鍵詞濺射；濺射變量；...
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氧化鋅是一種直接帶隙的寬禁帶ⅡⅣ族化合物半導(dǎo)體材料，在室溫下禁帶寬度為327EV，激子結(jié)合能為60MEV，具有良好的光電、壓電、熱電和鐵電等性能，可應(yīng)用于短波長發(fā)光二極管、紫外激光器和表面聲波等光電器件的制備，近幾年來引起了人們廣泛的研究。直流反應(yīng)磁控濺射...
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由于釩是一種過渡金屬元素，可與氧結(jié)合形成多種價態(tài)的氧化物，并且在光電轉(zhuǎn)換、熱敏特性方面表現(xiàn)出了優(yōu)異并且獨特的性質(zhì)，因此氧化釩薄膜成為國內(nèi)外的研究重點。目前對氧化釩的研究重點主要集中在器件方面，如光輻射防護(hù)薄膜、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲、太陽能電池及軍用激等應(yīng)...
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磁控濺射是一種物理氣相沉積技術(shù)已被廣泛地應(yīng)用于各種薄膜的制備它主要包括濺出粒子原子或分子的產(chǎn)生和輸運以及輸運到基片的粒子在基片上的擴(kuò)散、聚集、生長成膜兩大微觀過程其中產(chǎn)生濺出粒子的靶材濺射過程是關(guān)鍵性的部分在靶材濺射過程中濺射產(chǎn)額與靶材的刻蝕一直...
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目前在原子團(tuán)簇和納米材料的合成和制備研究中激光等離子體合成法扮演了一個極其重要的角色許多突破性的進(jìn)展都是通過激光等離子體合成法來實現(xiàn)的如C及其富勒烯家族的發(fā)現(xiàn)碳納米管和其他多種類型納米材料的生成等因此我們希望通過建立起脈沖激光濺射合成法探索一種團(tuán)簇...
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碩士學(xué)位論文2005MJ縱向磁場中濺射機(jī)理研究THERESEARCHOFDEPOSITIONMECHANICSINLONGITUDINALMAGNETICFIELDU究牛姓私儲開慧指導(dǎo)教師姓名～～苧G業(yè)躬稱國慶教授材料物理與化學(xué)研究方向一一一整豎蓐熙盟贊一論艾提交II期2005誓苧一舅塑璺￡型竺竺塑堡G塑里堅壁墮壘墮ABS...
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濺射鍍膜是制備薄膜常用的方法，它具有許多優(yōu)點薄膜與基體的附著力較強(qiáng)；在大面積連續(xù)基板上可以制取均勻的膜層；容易控制膜的成分，可以制取各種不同成分和配比的合金膜；可以進(jìn)行反應(yīng)濺射、制取化合物膜等。但是濺射鍍膜法在制備合金膜時存在擇優(yōu)濺射現(xiàn)象，這會使...
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磁控濺射法制備薄膜材料綜述磁控濺射法制備薄膜材料綜述材料化學(xué)材料化學(xué)張召舉張召舉摘要薄膜材料的厚度是從納米級到微米級，具有尺寸效應(yīng)，在國防、通訊、航空、航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，其有多種制造方法，目前使用較多的是濺射法，其中磁控濺射的應(yīng)用...
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復(fù)旦大學(xué)碩士學(xué)位論文05UMBICMOS項目金屬濺射工藝開發(fā)姓名楊飛申請學(xué)位級別碩士專業(yè)電子與通信工程指導(dǎo)教師姜國寶20071031摘要本文主要論述了一個0．5UMBICMOS工藝平臺項目中濺射金屬工藝的開發(fā)流程。該濺射工藝采用的是VARIAN公司的M2I磁控濺射系統(tǒng)。文章主要包括三...
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本文全面系統(tǒng)的研究了沉積條件對直流磁控濺射制備氮化銅薄膜的結(jié)構(gòu)和性能的影響，以及金屬鋁、鐵、鑭摻雜對直流磁控濺射制備氮化銅薄膜的結(jié)構(gòu)和性能的改變。具體做了下列幾方面的研究并得出了相應(yīng)的結(jié)論1在保持其它條件不變的情況下，改變氮氣分壓制備了氮化銅薄膜，...
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銅銦鎵硒CIGS薄膜太陽能電池具有抗輻射能力強(qiáng)、光電轉(zhuǎn)化效率高、工作性能穩(wěn)定等特點，是最有發(fā)展前景的太陽能電池之一。CIGS光吸收層薄膜的主要制備方法是多源共蒸發(fā)法和濺射硒化法。用共蒸發(fā)法制備的CIGS器件的光電轉(zhuǎn)換效率已經(jīng)達(dá)到203％，是目前CIGS薄膜太陽能電池...
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CLASSIFIEDINDEX0469UDC530SECRECYRATEPUB。。。I。。Z。IEDUNIVERSITYCODE●HEBEIUNIVERSITYOFSCIENCEANDTECHNOLOGYDISSERTATIONFORTHEMASTERDEGREE10082THERESEARCHOFPREPARATINGFILMSBYUSINGOFMAGNETRONSPUTTERINGCANDIDATESUPERYISORASSOCIATESUPERVISORACADEMIC...
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本論文主要研究SRO薄膜的生長工藝為在鐵電薄膜器件中的應(yīng)用奠定基礎(chǔ)首先本論文開展了筒形SRO陶瓷靶材的燒結(jié)工藝研究通過大量實驗優(yōu)化了燒結(jié)工藝其燒結(jié)溫度為1550℃、保溫24小時所制備的靶材結(jié)構(gòu)致密、結(jié)晶良好采用倒筒式直流濺射法在LAO和PTTISIOSI基片上沉積SRO薄膜...
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