低溫基質(zhì)隔離紅外光譜研究SiO-,2-與CO和CO-,2-的反應(yīng).pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該論文利用低溫基質(zhì)隔離傅立葉變換紅外光譜(FTIR)方法結(jié)合密度泛函理論(DFT)計(jì)算研究了:(1)SiO<,2>與CO和CO<,2>分子的反應(yīng);(2)GeO<,2><'->和GeO<,4><'->負(fù)離子.(1)SiO<,2>與CO和CO<,2>分子的反應(yīng)研究;利用脈沖激光濺射硅靶產(chǎn)生的硅原子與O<,2>反應(yīng)的方法制備SiO<,2>分子,在Ar基質(zhì)中研究了SiO<,2>與CO和CO<,2>的反應(yīng),反應(yīng)生成的產(chǎn)物采用FTIR探測(cè),通過同位

2、素取代實(shí)驗(yàn)結(jié)合DFT計(jì)算獲得了產(chǎn)物的振動(dòng)光譜,結(jié)構(gòu)及成鍵特性.(2)GeO<,2><'->、GeO<,4><'->負(fù)離子的研究;通過將激光濺射Ge靶產(chǎn)生的原子、電子等與O<,2>/Ar氣體共沉積的方法,首次在Ar基質(zhì)中制備了GeO<,2><'->和GeO<,4><'->,并獲得了它們的紅外吸收光譜.805.8,808.7和811.8cm<'-1>吸收峰分別歸屬為<'74>GeO<,2><'->,<'72>GeO<,2><'->和<'70

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