版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、北方交通大學(xué)碩士學(xué)位論文非晶態(tài)SiO電子能量模擬及遷移率的研究姓名:楊勝申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專(zhuān)業(yè):光學(xué)指導(dǎo)教師:成正維何大偉2002.2.1AbstractAmorphousSi02isoneofthemostimportantdielectricmaterialsBecauseofitsgoodelectronacceleratingcharaemristic,amorphousSi02waswidelyus酣inthelayeredo
2、ptimizationthinfilmelectroluminescent(TFEL)devicesandotheroovelstructuredevicesaselectronaccelerationlayersSoitissignificanttostudythepr01)ertiesofelectrontransportinamorphousSi02TwomainpartswasincludedinthisthesisInthef
3、irstpartwestudytheelectronenergydistributioninamorphousSi02withMonteCarlomethod,andinthesecondpartwestudythechargelocalizationandelectronmobililtyofamorphousSiO:witharandomnetworkmodelInthesimulationofelectronenergydistr
4、ibutioninamorphousSi02thescatteringmechanismwetakeintoaccolIntarepolaropticalphorionscattering,acousticphononscattering,impactionization,andaamorphousscatteringexpressionwithasimplespheroidgausstypepotentialTheresultofsi
5、mulationasfollows:Withtheincreasingofelectricfieldstrength,theaverageenergyofelectronalsoIncreaseTheaverageenergyofelectroncanreach27eVWrllentheeleetriefieldstrengthis5MV/cmwhichshowsthatamorphousSiO,isagoodelectronaccel
6、erationmaterialAccordingtotheelectronenergydistribution,wethinkthatinordertogetgoodelectronaccelerationperformanceinTFE乙,theelectricfieldstrengthofSi02shouldbehigherthan3MV/cmInthestudyoftherandomnetworkSi02,firstlyacont
7、inuousrandomnetworktypestructuralmodelwilhperiodicboundaryconditionswasconstructed,thenwecalculatetheelectronicstn】ctureofthemodel,resultsarepresentedforthedensityofStatesandthelocalizationindexofone—electronwavefunction
8、s,aithe|asttheelectronmobilityofamorphousSiO:wasevaluatedbasedontheresultofelectronicstructureTheresultasfoltows:TheValencebandofamorphousSiO,mainlycontributedbytheoxygenatomsandtheconductionbandmainlyofferedbythesilicon
9、atomsThelocalizationoftheboRomofconductionbandislittle,howeverrelativelylargeratthetopofvalencebandThemobitityvalueestimatedis22cm2,VsincloseagreementwiththeexperimentsKeyWords:AmorphousThinfilme]ectroluminescenceEnergyd
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- SiO-,2-凝膠-稀土摻雜SiO-,2-發(fā)光材料的制備與性能研究.pdf
- 應(yīng)變硅電子遷移率研究.pdf
- 空氣—水界面SiO-,2-、SiO-,2--TiO-,2-納米薄膜的研究.pdf
- SiC MOSFET溝道電子遷移率的Monte Carlo模擬研究.pdf
- 納米SiO-,2-與常規(guī)SiO-,2-致大鼠肺毒作用的比較研究.pdf
- 非單一SiO-,2-埋層的SOI新結(jié)構(gòu)研究.pdf
- 納米SiO-,2-與微米SiO-,2-致肺纖維化作用的比較研究.pdf
- 聚氨酯-SiO-,2-雜化材料與聚丙烯-聚氨酯-SiO-,2-復(fù)合材料的研究.pdf
- 電子級(jí)高純超細(xì)SiO-,2-粉研究.pdf
- 超低介電常數(shù)材料納米多孔SiO-,2-和SiO-,2-:F薄膜的制備及其特性研究.pdf
- 納米SiO-,2-薄膜的制備及性能研究.pdf
- 納米SiO-,2-類(lèi)流體的制備及性能研究.pdf
- 低SiO-,2-燒結(jié)礦生產(chǎn)的研究.pdf
- 超低介電常數(shù)材料納米多孔SiO-,2-和SiO-,2-:F薄膜的制備及其物性研究.pdf
- 納米SiO-,2-改性脲醛樹(shù)脂的研究.pdf
- 納米SiO-,2-粒子的表面改性及聚丁二烯-SiO-,2-納米復(fù)合材料的制備.pdf
- SiO-,2-納米線及ZnO-SiO-,2-復(fù)合物的制備與表征.pdf
- 應(yīng)變硅主次能谷電子遷移率的研究.pdf
- SiO-,2-氣凝膠的制備方法研究.pdf
- 納米SiO-,2-改性PC及PC-ABS的研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論