納米復合材料中界面擴散和斯格明子的研究.pdf

1、磁性材料在這飛速發(fā)展的時代里起著舉足輕重的作用，它被運用在飛機、汽車、硬盤等領域，一種新型復合材料—納米復合材料被人們所熟知，不僅因為它集中了硬磁和軟磁的優(yōu)點，還因為它具有更好的穩(wěn)定性等特性，而被磁學界廣泛研究。磁儲存材料是磁性材料中一個重要的分支，斯格明子(skyrmion)由于它的拓撲穩(wěn)定性，小尺寸和少耗能等特點，使其很有可能成為新一代磁儲存和自旋電子設備的基本單元。本論文運用微磁學方法理論，采用OOMMF和Fortran進行三維模

2、擬計算和一維解析分析，對Nd2Fe14B/α-Fe體系中存在界面擴散的情況和CoPt/Co雙層膜和三層膜體系中的斯格明子進行了模擬計算，重新推導易軸在面外時的釘扎場公式，主要結果如下:
　　1.界面擴散對易軸在面內(nèi)和面外時Nd2Fe14B/α-Fe體系的磁性能的影響，主要是對磁滯回線、角度分布等的影響。隨著過渡層厚度ti的增加，體系矯頑力降低，但剩磁和成核場的變化很小;隨著外場的減小，軟磁磁矩最先偏轉(zhuǎn)，帶動過渡層磁矩轉(zhuǎn)動，但硬磁相

3、的磁矩維持在飽和狀態(tài)。當外場較小到矯頑點時，過渡層厚度ti為0或者較小的體系的硬磁磁矩發(fā)生了約30°的偏轉(zhuǎn)，而過渡層厚度ti較大的體系的硬磁相磁矩角度θh仍然維持在0°左右。
　　2.CoPt/Co雙層膜和CoPt/Co/CoPt三層膜體系在沒有Dzyaloshinskii-Moriya相互作用時的斯格明子和渦旋態(tài)(vortex)以及體系材料參數(shù)對斯格明子態(tài)數(shù)S的影響。在雙層膜和三層膜的硬磁相和軟磁相均出現(xiàn)了斯格明子，雙層膜和三層