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文檔簡介
1、TiO2具有優(yōu)良的光催化活性,然而其較寬的帶隙(Eg=3.2eV)導(dǎo)致其利用太陽可見光性能較差。將TiO2與其它窄帶隙半導(dǎo)體材料進行有效的復(fù)合,為處理以上問題提供了有益的解決方案。本工作嘗試將窄帶隙的硅(Eg=1.12eV)與TiO2進行復(fù)合而形成TiO2/Si光催化材料。從應(yīng)用的角度出發(fā),使用具有納米陷光結(jié)構(gòu)的太陽級(SoG)Si片并在其上采用液相沉積法(LPD)能夠較容易地制備大面積的TiO2薄膜。結(jié)果表明,TiO2/Si復(fù)合材料的
2、可見光吸收和光催化性能得到較大提升,從而使得該技術(shù)途徑在利用太陽能光降解領(lǐng)域顯示出較好的應(yīng)用前景。
在本論文中,我們采用液相沉積法(LPD)分別在不同微結(jié)構(gòu)的太陽能(SoG)多晶硅片上制備了TiO2薄膜,并對其光催化性能進行了研究。論文主要的研究結(jié)果以下:
一、采用液相沉積法(LPD)制備TiO2薄膜,研究了不同的氟鈦酸銨和硼酸濃度、沉積溫度、沉積時間、退火溫度因素對薄膜表面結(jié)構(gòu)的影響。并由此確定了最佳的薄膜制備工藝
3、:0.1mol/L的(NH4)2 TiF6和0.4 mol/L的H3 BO3,在55℃溫度下沉積1h并在700℃下進行熱處理。
二、研究了不同基片上制備的TiO2薄膜光學(xué)減反特性。通過改變沉積時間在制絨多晶硅(MTp-Si)上沉積了不同厚度的TiO2薄膜,對比鍍膜前后的反射率可以發(fā)現(xiàn),具有微米絨面結(jié)構(gòu)的制絨多晶硅(MTp-Si)的反射率為24.5%,在鍍膜后反射率都有所降低,而且不同厚度的薄膜的減反效果也不同,90nm厚的薄膜
4、表現(xiàn)出了最佳的減反效果,平均反射率降低至8.2%。
三、利用液相沉積法分別在石英玻璃(Quartz)、制絨多晶硅(MTp-Si)、黑硅(NTp-Si)、有pn結(jié)的黑硅(NTpn-Si)上制備了TiO2薄膜,對比了4種基片在鍍膜前后的微觀結(jié)構(gòu)與陷光性能。具有納米陷光結(jié)構(gòu)的黑硅表現(xiàn)出優(yōu)于多晶硅制絨片的陷光性能,鍍膜前的平均反射率為17.5%,鍍膜后的平均反射率減低為5.3%。此外,PN結(jié)的引入對薄膜結(jié)構(gòu)和反射率均無影響。
5、 四、實驗測量并比較了這四種TiO2薄膜樣品在全光譜和可見光下的光催化性能。結(jié)果表明,在石英玻璃上制備的TiO2薄膜只在紫外線下具有光催化能力,而生長在具有納米陷光結(jié)構(gòu)的黑硅上的TiO2薄膜在全光譜(4小時降解79%)和可見光(4小時降解49%)下都表現(xiàn)出了優(yōu)于石英玻璃和多晶硅制絨片的光催化性能;通過引入PN結(jié),降解效率進一步有~5%的提升。
綜上所述,我們采用液相沉積法(LPD)在具有不同微結(jié)構(gòu)的太陽級(SoG)硅片上制備了
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