基于軟壓印法制備大幅面亞波長減反射膜研究.pdf

1、基于亞波長結(jié)構(gòu)來提高光學(xué)器件的減反射性能是一個重要的研究課題。對于很多光學(xué)器件來說,提高光的透過率有著十分重要的意義。特定的亞波長結(jié)構(gòu)在兩種介質(zhì)的分界面形成漸變的折射率層,使其能夠?qū)捁庾V大角度入射的光有較強的減反射特性。相較于傳統(tǒng)的單層或多層減反射薄膜,亞波長減反結(jié)構(gòu)更有研究價值和應(yīng)用前景。
　　本論文中,基于軟光刻技術(shù),采用一種改性的聚氨酯丙烯酸酯(polyurethane acrylate, PUA)軟模版在聚合物膜上制備亞

2、波長減反結(jié)構(gòu)。其中PUA軟模版是由多孔陽極氧化鋁模版納米壓印制得,不必像傳統(tǒng)制備模版工藝一樣費時且昂貴。PUA軟模版有100nm的分辨率,而且表面亞波長結(jié)構(gòu)的深寬比達到1.7。柔性PUA模版可以與待壓印基底有很好的共形接觸,且能有效地降低脫模難度。模擬發(fā)現(xiàn),與納米柱陣列結(jié)構(gòu)相似,納米孔結(jié)構(gòu)同樣有寬光譜、大角度高減反射特性。實驗發(fā)現(xiàn),對于可見光,雙面納米孔陣列透明膜的正入射光透過率可以達到98.7％,60°入射時的透過率可達92.5％。這