硅外延裝備工藝控制軟件設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn).pdf

1、AthesissubmittedtoZhengzhouUniVersityforthede鏟eeofMasterDesignandImplementationofProcessCon仃01So行w2ureforSiliconEpita婦alEquipmentByWeiChenSupervisor：AssociateProfessorJiansheGaoMecha仃onicsEngineeringSchoolofMechanicalEng

2、ineeringMay，2014摘要摘要作為集成電路生產(chǎn)線重要前端工藝裝備之一，硅外延裝備負(fù)責(zé)硅片的外延工藝處理，在給定的外延襯底上生成一層導(dǎo)電型、電阻率，厚度與晶格結(jié)構(gòu)等都滿足嚴(yán)格要求的新單晶層，對(duì)后續(xù)工藝的順利進(jìn)行和最終產(chǎn)品的質(zhì)量有著至關(guān)重要的影響。本文以某型號(hào)硅外延裝備為研究對(duì)象，旨在完成其工藝反應(yīng)系統(tǒng)控制軟件的設(shè)計(jì)與開(kāi)發(fā)工作。首先分析了裝備工藝反應(yīng)系統(tǒng)的主要功能及其硬件結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)，結(jié)合工藝反應(yīng)系統(tǒng)控制軟件的用戶需求，采用UML建

3、模語(yǔ)言建立軟件的需求模型，以提供軟件設(shè)計(jì)的依據(jù)。然后，闡述了軟件架構(gòu)的基本概念與設(shè)計(jì)原則。在此基礎(chǔ)上，依據(jù)軟件需求模型，運(yùn)用層次化、模塊化設(shè)計(jì)方法完成工藝控制軟件的架構(gòu)設(shè)計(jì)，并通過(guò)UML語(yǔ)言建立軟件各個(gè)層次的靜態(tài)模型。為實(shí)現(xiàn)軟件功能模塊的設(shè)計(jì)，引入設(shè)計(jì)模式這一方法。對(duì)設(shè)計(jì)模式的概念、類型，以及常見(jiàn)模式進(jìn)行分析研究，然后根據(jù)軟件架構(gòu)設(shè)計(jì)所劃定的功能模塊的特點(diǎn)，確定合理的設(shè)計(jì)模式完成其設(shè)計(jì)工作，并采用UML語(yǔ)言建立其靜態(tài)模型。最后，在Net

4、環(huán)境下，采用Cjfj編程語(yǔ)言完成代碼的編寫工作，并分別從單元測(cè)試、集成測(cè)試和系統(tǒng)測(cè)試這三個(gè)層面對(duì)軟件進(jìn)行測(cè)試。結(jié)果表明，所研發(fā)軟件能夠很好地滿足用戶要求；此外，層次化、模塊化設(shè)計(jì)方法和設(shè)計(jì)模式的運(yùn)用獲得了裝備控制軟件的易擴(kuò)展、易維護(hù)等特性，以及升級(jí)換代時(shí)快速市場(chǎng)響應(yīng)的能力。目前該軟件已成功用于硅外延裝備的實(shí)際控制，保證了裝備工藝反應(yīng)系統(tǒng)的穩(wěn)定可靠運(yùn)行。本文所采用的軟件設(shè)計(jì)思想和方法，對(duì)具有類似特征的裝備控制軟件的設(shè)計(jì)與開(kāi)發(fā)有著一定的指導(dǎo)