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文檔簡介
1、本文以純鋁為基體材料,利用自制的WH-1A型微弧氧化設(shè)備對試樣表面進行微弧氧化處理,研究了:添加劑六偏磷酸鈉對微弧氧化電壓以及微弧氧化膜層的物相組成、膜層形貌及結(jié)構(gòu)的影響;利用兩步法,還研究了微弧氧化膜層的生長機理;此外還研究了超聲波作用下微弧氧化初期膜層的生長機理。
研究結(jié)果表明:添加劑六偏磷酸鈉的加入提高了微弧氧化所需電壓,有利于促進硅酸鹽更多的參與成膜形成莫來石相;同時,六偏磷酸鈉促進厚度的增加,表面粗糙度增加;硅酸鹽電
2、解液中膜層/基體界面處的膜層形貌是破碎的小球狀形貌,而添加六偏磷酸鈉有利于促進膜層/基體界面處的膜層形貌由破碎的小球狀形貌變?yōu)橥暾男∏驙钚蚊玻浑S著微弧氧化時間的延長,膜層向內(nèi)向外生長界面的不均勻程度均增加,膜層向內(nèi)生長主要依賴于膜層內(nèi)大空腔處的擊穿放電,而膜層的致密區(qū)可以在長達20min的時間內(nèi)不發(fā)生向內(nèi)生長,該區(qū)域的增厚多依賴于膜層的向外生長。
微弧氧化初期,超聲波對微弧氧化過程中的電壓并無明顯影響,且對膜層物相的種類及含
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