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1、隨著激光器的問(wèn)世,激光微加工技術(shù)得到越來(lái)越多的關(guān)注和研究。納秒、皮秒、飛秒激光因其具有脈寬窄、峰值功率高、相干性好等特點(diǎn),被廣泛應(yīng)用在MEMS器件的制作,表面改性等微精細(xì)加工領(lǐng)域。
激光誘導(dǎo)向前轉(zhuǎn)移技術(shù)(LIFT)是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種激光微加工技術(shù)。具有適應(yīng)性強(qiáng),加工精度高,成本低廉,綠色環(huán)保,適用范圍廣等諸多優(yōu)點(diǎn)。本課題結(jié)果LIFT技術(shù)主要進(jìn)行了以下方面的研究:
1.對(duì)單脈沖激光下轉(zhuǎn)移碳化硅進(jìn)行了一系列的研究,研
2、究了532nm下涂層和懸濁液時(shí)的不同結(jié)果,并且研究了激光能量的影響。隨著激光能量的增大,接收靶材不論是PET還是鋁片,上面的碳化硅顆粒分布面積都隨著增加;且由于兩種靶材的屈服強(qiáng)度的不同使得在PET上面的顆粒分布要大;使用碳化硅涂層作“源”材料時(shí)的顆粒分布面積比使用碳化硅懸濁液時(shí)的大,一方面是因?yàn)楣腆w顆粒涂層吸收的能量比懸濁液多,另一方面懸濁液的阻尼效應(yīng)比空氣大。最終的實(shí)驗(yàn)采用效果較好的碳化硅涂層來(lái)進(jìn)行下一步實(shí)驗(yàn)。之后發(fā)現(xiàn)使用1064nm
3、波長(zhǎng)時(shí)顆粒分散效果要比532nm波長(zhǎng)下的好,進(jìn)而分別研究了1064nm波長(zhǎng)下激光脈沖能量、離焦距離、接收距離對(duì)顆粒分布的影響。激光能量的增大使得顆粒分布要堆積狀變?yōu)椤碍h(huán)”狀,這是因?yàn)榧す饽芰窟_(dá)到足夠高時(shí)對(duì)碳化硅的分解作用越明顯;離焦距離的增大使得顆粒分布范圍變大之后一直減小,這主要是由激光光束的高斯分布特性造成的;接收距離越大,靶材上面顆粒分布的越分散,轉(zhuǎn)移過(guò)程中顆粒的運(yùn)動(dòng)特性對(duì)這起了主要作用。并且根據(jù)單因素的實(shí)驗(yàn)結(jié)果選擇了合適的變量進(jìn)
4、行了正交實(shí)驗(yàn),通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)得出接收距離是對(duì)顆粒面積比影響最大的參數(shù),在實(shí)驗(yàn)所用參數(shù)范圍內(nèi):接收距離250μm、離焦距離1000μm、激光能量17.4mJ時(shí)顆粒分散最厲害,接收距離1000μm、離焦距離250μm、激光能量5mJ時(shí)顆粒分布最集中。
2.研究了1064nm激光下單線結(jié)構(gòu)和大面積涂層的制作。當(dāng)脈沖間距很小時(shí),并不能實(shí)現(xiàn)單線的制作,一方面是由于沖擊波的作用范圍比聚焦光斑范圍大很多,另一方面,下一個(gè)脈沖有時(shí)候會(huì)直接不通過(guò)
5、涂層作用到靶材上面進(jìn)而對(duì)靶材進(jìn)行燒蝕作用。實(shí)驗(yàn)通過(guò)進(jìn)行工藝優(yōu)化制作出了比較連續(xù)的碳化硅單線結(jié)構(gòu)和比較均勻的碳化硅大面積涂層。
3.研究了激光誘導(dǎo)轉(zhuǎn)移銅箔。本章利用激光誘導(dǎo)向前轉(zhuǎn)移技術(shù)通過(guò)燒蝕銅箔的方法完成了銅在玻璃上的沉積,并且進(jìn)一步制作出了銅線。沉積點(diǎn)形貌呈現(xiàn)中間顆粒狀周圍片狀,這是由激光與銅箔作用中使得銅箔產(chǎn)生中心部分熔融態(tài)周圍固態(tài)的狀態(tài)分布引起的。通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)分析出了激光能量對(duì)轉(zhuǎn)移面積影響最大,其次是脈沖個(gè)數(shù)最后是離焦程
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