2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩62頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領

文檔簡介

1、如何能高效地制備出合格的半固態(tài)漿料是流變成形技術(shù)的一個關(guān)鍵。通過比較,在眾多的制漿方法當中,熔體分散混合制漿法可以有效的解決大體積熔體快速、均勻冷卻問題并可連續(xù)的制備出半固態(tài)漿料。但目前對該方法工藝參數(shù)的研究不夠詳盡,其中包括工藝參數(shù)對熔體分散均勻性的優(yōu)化、制漿過程中熔體澆注溫度、流量、制漿室溫度對過冷度的控制以及后續(xù)保溫過程中保溫參數(shù)對漿料組織的影響等。
  本文首先以相似理論為基礎,用水模擬試驗將鋁液分散過程可視化,研究分散盤

2、出流均勻性、制漿室壁面液膜鋪展特性,采用正交試驗得出了分散盤轉(zhuǎn)速、入流位置、入流流量、流速四個因素對分散均勻性的影響規(guī)律和分散過程中氣體卷入量,得出了水膜均勻分散的最佳工藝參數(shù)。研究發(fā)現(xiàn)入流位置、分散盤轉(zhuǎn)速對液體分散均勻性影響最大,入流流量其次,流速最小。各因素的影響規(guī)律是:當入流位置越接近分散盤中心時,分散均勻性越好;隨著分散盤轉(zhuǎn)速的提高,分散均勻性越好,當轉(zhuǎn)速提高過大時,分散均勻性有所變差;流量對分散均勻性的影響有著類似的規(guī)律;流速

3、的影響是:低流速條件下,分散均勻性較好。最終水膜均勻分散的最佳工藝參數(shù)為:分散盤轉(zhuǎn)速為700r/min,入流位置為?R處,入流流量為63cm3/s,入流流速為80.25cm/s。
  其次,在最佳分散工藝參數(shù)條件下,使用自行設計的熔體分散混合制漿設備制備了A356合金半固態(tài)漿料,研究了在制漿過程中,熔體澆注溫度、入流流量、制漿室溫度對過冷度的影響規(guī)律。低入流流量、低入流溫度和低制漿室溫度,可以使?jié){料獲得大的過冷度。最佳工藝方法確定

4、為:澆注溫度為630℃、制漿室溫度為500℃、熔體入流流量為10.2kg/min,可獲得過冷度為16℃。
  再次,對獲得的半固態(tài)漿料進行保溫,研究了靜態(tài)和動態(tài)保溫對半固態(tài)漿料組織的影響。A356合金半固態(tài)漿料在動態(tài)保溫下,可獲得更佳的半固態(tài)漿料組織,最佳保溫工藝參數(shù)為:保溫溫度為590℃-600℃,保溫時間5min內(nèi),攪拌速度400r/min。此時,半固態(tài)漿料初生相的等徑圓直徑約為83μm,形狀因子為0.71。
  最后,

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論