斜入射電磁吸波結構設計研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩66頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、加強全向電磁波的吸收,減少目標體被電磁波探測到的幾率,避免電磁輻射,是軍事和日常生活的重要需求。因而吸波結構在電磁波斜入射下的性能越來越受到重視。增強斜入射下吸波結構的性能,是有效控制和利用電磁場的一個重要方面。斜入射下性能良好的立體吸波結構和超材料吸波平板,因為占用空間較大或者有效頻帶狹窄,其應用范圍被限制。磁性平板具有厚度薄、頻帶寬的特點,但是對其在電磁波斜入射下吸波性能的研究比較少。本文對斜入射下磁性吸波平板進行了研究和優(yōu)化設計,

2、使磁性平板不僅能夠在斜入射下達到良好的吸收效果,并且盡量保持了寬頻帶的優(yōu)點,有實際應用價值。在實驗中,在5GHz到8.5GHz的頻段內,本文設計的3mm厚的樣品可以在0°到45°入射角度范圍內達到約90%的吸收率。
  本文主要內容如下:
  1、對磁性平板在斜入射下的性能進行了理論研究,提出了其在斜入射下的吸波性能極限關系。首先基于傳輸線理論,分析了在各入射角度下磁性平板與自由空間分界面的輸入阻抗。分析表明,磁性平板在斜入

3、射下不能同時滿足兩種極化與自由空間的完美匹配。為了克服這一矛盾,基于兩種極化下阻抗匹配的折中,本文提出了磁性平板能夠在電磁波斜入射下達到的最優(yōu)性能及達到該性能需滿足的條件。
  2、探索磁性平板斜入射的優(yōu)化方法,獲得了極化不敏感、寬帶吸波性能的設計思路。針對磁性平板電磁參數(shù)難以精確控制的實際情況,利用頻率選擇表面和電介質層加載,優(yōu)化磁性平板在斜入射下的性能。并且討論了頻率選擇表面對磁性平板與自由空間分界面的輸入阻抗的調整作用及該方

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論