復(fù)合電鍍Ni-CrAl高溫涂層的制備.pdf

1、目前，制備MCrAlY高溫涂層通常采用電子束-物理氣相沉積、等離子噴涂等方法。其中，電子束－物理氣相沉積具有設(shè)備昂貴，沉積效率低、操作復(fù)雜等缺點；等離子噴涂制備的涂層氣孔率高，易產(chǎn)生裂紋，與基材呈機(jī)械結(jié)合，服役過程中易剝落?；诖耍菊撐牟捎贸杀镜?、操作簡單的共沉積技術(shù)制備了Ni/CrAl高溫涂層，研究了不同球磨時間對CrAl粉末粒度的影響以及不同添加劑對其分散性和潤濕性的影響，設(shè)計了一個分析固體顆粒分散性的簡易裝置。并根據(jù)粉末在溶液行

2、為，分析了不同的共沉積工藝參數(shù)對鍍層中CrAl顆粒含量的影響，探討了共沉積機(jī)理。主要研究內(nèi)容與結(jié)果如下：
　　（1）不同球磨時間對CrAl粉末粒度影響的研究。結(jié)果表明，當(dāng)球磨機(jī)的轉(zhuǎn)速為520轉(zhuǎn)/分以及每0.5小時正反交替運行時，CrAl合金粉末粒度的中心徑與球磨時間關(guān)系是為d50=34.61-22.90lglgt。
　?。?）不同液體對CrAl合金粉末潤濕性與吸附性影響的研究。結(jié)果表明，乙醇與CrAl合金粉末的接觸角隨溫度的

3、升高而增大，去離子水與CrAl合金粉末的接觸角隨溫度的升高而減小，表明乙醇對CrAl合金粉末的潤濕性優(yōu)于去離子水。此外，當(dāng)溶液的pH＜7時，粉末顆粒表面帶正電荷，當(dāng)溶液的pH＞7時，粉末顆粒表面帶負(fù)電荷；當(dāng)溶液的pH=7時，加入粉末顆粒后溶液的pH值變化較小。
　　（3）電鍍工藝參數(shù)對Ni/CrAl高溫涂層復(fù)合含量影響的研究。結(jié)果表明，隨著攪拌強(qiáng)度增大，鍍層微粒含量先增大后減少，最大復(fù)合含量可以達(dá)到約15％；pH增大，鍍層微粒含量

4、逐漸降低；在一定范圍內(nèi)，電流密度增大，鍍層微粒含量含量隨之增大；溫度升高，鍍層復(fù)合含量下降；其中攪拌方式影響最大，其次pH和電流，溫度影響較小。其中最佳電流密度為2.5~4.5Adm2，pH為4~4.5，溫度采用室溫即可。并從電化學(xué)方法分析可知，添加粉末、降低pH或溫度都對電沉積過程有一定的促進(jìn)作用。
　?。?）根據(jù)對粉末性質(zhì)研究和共沉積過程中各參數(shù)對鍍層中顆粒的復(fù)合含量影響。分析表明，其中合金粉末顆粒弱吸附對提高鍍層中顆粒的復(fù)合