用離子源助鍍法蒸鍍TiO2薄膜研究.pdf

1、題目題目用離子源助鍍法蒸鍍用離子源助鍍法蒸鍍TiO2TiO2薄膜研究薄膜研究TheStudyofTiO2thinfilmsTheStudyofTiO2thinfilmsdepositeddepositedbyIADbyIADmethodethod作者姓名作者姓名張倩張倩雷天民雷天民教授教授電子與通信工程電子與通信工程提交論文日期提交論文日期2012014年4月10日徐現(xiàn)剛徐現(xiàn)剛教授教授代號(hào)代號(hào)分類號(hào)分類號(hào)學(xué)號(hào)學(xué)號(hào)密級(jí)密級(jí)TN3公開公開1

2、175960049UDC編號(hào)編號(hào)學(xué)校學(xué)校指導(dǎo)教師姓名職指導(dǎo)教師姓名職稱工程領(lǐng)域工程領(lǐng)域企業(yè)指導(dǎo)教師姓名職稱企業(yè)指導(dǎo)教師姓名職稱摘要摘要摘要氧化鈦(TiO2)是一種具有多元晶格結(jié)構(gòu)的光學(xué)鍍膜材料，氧化鈦在550nm處的折射率可在2.2～2.7之間變化，是一種很好的高折射率材料，并且離子源助鍍鍍膜可改善膜層致密性、增加折射率、反射率，提升產(chǎn)品性能指標(biāo)，本文研究了采用離子源助鍍方法，制備TiO2薄膜并提升高反膜性能。本文主要采用離子源助鍍法在

3、GaAs基底上制備了TiO2薄膜并將其應(yīng)用到激光器高反膜膜系中，對(duì)比測(cè)試了樣品的附著性、反射率、折射率，分析了離子源助鍍對(duì)薄膜性能的提升及膜層SEM微觀特性，討論了其與離子輔助沉積成膜工藝參數(shù)之間的相互關(guān)系。通過光學(xué)膜系的理論算法，計(jì)算膜層透射率、折射率等特性參數(shù)；對(duì)比TiO2薄膜與其他常用膜料光學(xué)特性優(yōu)缺點(diǎn)；對(duì)比使用利用離子源助鍍前后TiO2薄膜光學(xué)性能的提升；通過實(shí)驗(yàn)尋找5種主要影響TiO2薄膜特性因素的優(yōu)化蒸鍍條件（5種主要因素：

4、基片溫度、真空度、蒸鍍速率、O2流量、離子輔助能量），研究了不同工藝參數(shù)條件下，離子源助鍍光學(xué)薄膜的特性；該膜系及工藝條件應(yīng)用到激光器腔面鍍膜中，并研究了激光器性能、指標(biāo)、參數(shù)表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：TiO2薄膜折射率隨基片溫度的增加而增加；TiO2薄膜折射率隨蒸鍍速率的增加而先增加再減??；與正常蒸鍍工藝相比，基片溫度相同條件下，使用離子輔助沉積工藝，可以有效提高的TiO2薄膜折射率；離子束助鍍工藝激光器峰值功率離散度最小，且平均峰值功率普