基于二進(jìn)制條紋相移法的物體三維形貌測(cè)量技術(shù)研究.pdf

1、在光學(xué)三維形貌測(cè)量領(lǐng)域，常用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生數(shù)字正弦光柵條紋進(jìn)行投影測(cè)量，該方法雖然能產(chǎn)生較好的測(cè)量效果但仍存在著一定的缺陷，如由投影儀的非線性Gamma誤差帶來(lái)的非正弦性以及實(shí)際測(cè)量時(shí)需要對(duì)投影儀進(jìn)行頻繁的標(biāo)定。為了解決傳統(tǒng)方法中直接投影正弦條紋時(shí)存在的這些缺陷，本文研究了基于二進(jìn)制條紋投影的三維形貌測(cè)量，并結(jié)合三維測(cè)量中的相移法，實(shí)現(xiàn)高精度的三維形貌測(cè)量技術(shù)。
　　本文以傳統(tǒng)方法中直接投影正弦條紋圖三維測(cè)量為參照，致力于研究二進(jìn)制條

2、紋投影相移法三維測(cè)量技術(shù)。整個(gè)測(cè)量系統(tǒng)包含相移法、相位解包裹算法、二進(jìn)制條紋投影的分析以及系統(tǒng)標(biāo)定等。相移法適用于本文研究的靜態(tài)場(chǎng)景，具有較高的測(cè)量精度和空間分辨率，且不同步數(shù)相移算法對(duì)本文研究重點(diǎn)二進(jìn)制條紋投影三維測(cè)量的精度具有不同的影響。本文針對(duì)二進(jìn)制條紋投影三維測(cè)量分為兩部分進(jìn)行研究:在投影儀散焦?fàn)顟B(tài)下以及聚焦?fàn)顟B(tài)下。散焦?fàn)顟B(tài)下投影二進(jìn)制條紋目的是產(chǎn)生理想的正弦條紋圖，其原理是0、1兩種灰度避免了投影儀的Gamma非線性影響，實(shí)際