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1、本文分別采用了氧化還原法和化學(xué)氣相沉積法在銅金屬表面制備石墨烯薄膜,以提高銅合金的耐蝕性。運(yùn)用XRD、SEM和拉曼光譜等分析了各條件下制得的石墨烯形貌和結(jié)構(gòu),使用循環(huán)伏安法、極化曲線和電化學(xué)阻抗譜測(cè)試了其抗腐蝕性能。
氧化還原法的結(jié)果表明,HI、水合肼、H2還原氧化石墨烯薄膜的效率依次降低。其中,HI去除了氧化石墨烯大部分的含氧官能團(tuán),所得膜層最薄,但降低了膜層與銅基體的結(jié)合力;H2保證了膜層的完整性,但殘留的含氧官能團(tuán)較多,
2、膜層較厚,還原不充分;水合肼還原介于HI和H2兩者之間,對(duì)膜層破壞較小,研究該條件下試樣的抗腐蝕性能最有意義。對(duì)水合肼還原的石墨烯薄膜進(jìn)行電化學(xué)測(cè)試,結(jié)果顯示其在一定程度上提高了銅基體的耐蝕性,但效果不顯著。
氣相沉積法的結(jié)果表明,隨著生長(zhǎng)時(shí)間的延長(zhǎng),石墨烯的厚度增加,同時(shí)缺陷密度也增加。H2是該法制備石墨烯必需的氣體,它起到催化甲烷裂解和石墨烯成核的作用。極化曲線表明生長(zhǎng)時(shí)間為7min的石墨烯薄膜耐蝕性最好,電化學(xué)阻抗圖譜顯
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