基于流-熱-固多場耦合分析的PECVD裝置優(yōu)化設(shè)計(jì).pdf

1、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法（PECVD）是一種重要的鍍膜工藝，廣泛應(yīng)用于光伏、集成電路等工業(yè)。目前我國在PECVD裝置方面仍然落后于德國等國家。本課題來自于某大容量PECVD裝置國產(chǎn)化過程中遇到的熱變形問題。本文基于流-熱-固多場耦合分析方法對該裝置進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)，以解決其熱變形問題。
　　本文分為三個(gè)部分，第一部分介紹該P(yáng)ECVD裝置并通過實(shí)物試驗(yàn)驗(yàn)證它的熱變形問題。這一部分介紹了包括裝置臺架和裝置箱體在內(nèi)的裝置系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。在試驗(yàn)工

2、況下分別完成了一次隔熱與冷卻性能試驗(yàn)和兩次密封性能試驗(yàn)。試驗(yàn)結(jié)果證明裝置性能不滿足生產(chǎn)工況要求。
　　第二部分建立了該裝置的流-熱-固多場耦合模型，并通過耦合分析結(jié)果與試驗(yàn)數(shù)據(jù)的對比驗(yàn)證了耦合模型的準(zhǔn)確性。
　　最后一部分從結(jié)構(gòu)相關(guān)因素和傳熱相關(guān)因素兩個(gè)角度分析了裝置的性能問題并對裝置進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)。應(yīng)用32(49)正交試驗(yàn)對傳熱相關(guān)因素進(jìn)行分析得到發(fā)射率等因素的優(yōu)化方案。又分析了冷卻管路布置和加強(qiáng)筋面積對裝置性能的影響。最