三靶磁濺式真空鍍膜機電氣控制系統(tǒng)的研究.pdf

1、真空鍍膜機是一種直流磁控反應濺射鍍膜機，主要應用于太陽能真空管的制造過程。根據(jù)廠家工藝要求和技術參數(shù)，以PLC、觸摸屏作為硬件開發(fā)平臺，設計三靶磁濺式真空鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)。工件旋轉和靶旋轉均采用模塊化的直流電機驅動電路，通過PLC軟件程序實現(xiàn)電樞降壓軟起動。采用分子泵替代油擴散泵，解決了鍍膜生產中油擴散泵出現(xiàn)的返油現(xiàn)象，提高鍍膜質量，降低了控制系統(tǒng)的功耗，節(jié)約電能90％以上。分子泵VVVF自適應控制的速度閉環(huán)控制建立于真空室真空度的

2、基礎上，從而有效解決了真空度穩(wěn)定和陡降之間的矛盾。首次獲得了與技術工藝參數(shù)相適應的靶電源模糊控制方法，該方法用軟件程序簡化硬件電路，明顯優(yōu)于傳統(tǒng)的PID控制方法，模糊化處理的電流反饋回路解決了直流電流穩(wěn)定和陡降之間的矛盾。通過EasyView觸摸屏進行參數(shù)設置、顯示、工藝流程的全程監(jiān)控以及開關量的操作，體現(xiàn)以人為本的設計思想，提高了系統(tǒng)的可靠性。 電氣控制系統(tǒng)具有參數(shù)設置、工藝流程自動／手動控制、故障報警和保護等功能。文中對于控