薄膜型WO3-Cu2O復合光催化劑的制備與應用.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、通過連續(xù)陰極電沉積方法在導電基體Ti上制備了WO3,n-Cu2O,p-Cu2O,WO3/n-Cu2O和WO3/p-Cu2O薄膜。通過X-射線衍射(XRD),掃描電子顯微鏡(SEM)和X-射線能譜分析(EDS)對薄膜進行表征。通過在自然光照射下光催化氧化橙黃Ⅱ和還原Cr (VI)的活性來評價薄膜的光催化性能。
   結(jié)果表明,WO3的光催化活性很低。WO3/n-Cu2O 復合膜的光催化活性雖然高于單一的WO3,卻低于n-Cu2O,

2、WO3/p-Cu2O的光催化活性在n-Cu2O,p-Cu2O和WO3/n-Cu2O中最高;即使在沒有其他還原性物質(zhì)存在的條件下,WO3/p-Cu2O 光催化還原Cr(VI)也能顯示出較高的活性。WO3/p-Cu2O的光催化活性與上層p-Cu2O的沉積量有很大關系。另外,WO3/p-Cu2O在光催化反應中表現(xiàn)出了良好的穩(wěn)定性。通過WO3/n-Cu2O和WO3/p-Cu2O 異質(zhì)結(jié)界面不同的光生電荷轉(zhuǎn)移機制解釋了兩種光催化劑催化活性的差異。

3、實驗使用WO3/p-Cu2O 做光催化劑,研究了光催化條件對橙黃Ⅱ降解和Cr(VI)還原轉(zhuǎn)化的影響。橙黃Ⅱ溶液的pH值、起始濃度和無機陰離子的存在對其降解率均有影響:橙黃Ⅱ在其自然pH值(5.7)下的降解率最高;起始濃度低時降解率較高,但是在所研究的濃度范圍內(nèi)絕對降解的量是隨著濃度的增大而增大的;在共存的NO3-、SO42-和Cl-三種陰離子中,只有NO3-對橙黃Ⅱ的降解起到促進作用,在10mg/L的橙黃Ⅱ中加入0.05 mmol/L

4、NO3-,降解率由未加時的30%提高到42%。
   WO3/p-Cu2O 還原Cr(VI)的研究發(fā)現(xiàn),有機酸作為空穴清除劑對Cr(VI)的光催化有重要影響,加入1.6 mmol/L的檸檬酸后,Cr(VI)的還原轉(zhuǎn)化率由未加時的18%提高到58%;在所研究的四種有機酸中,影響順序為:酒石酸>檸檬酸>草酸>乙酸;隨著溶液pH值的降低Cr(VI)的還原轉(zhuǎn)化率升高;雖然在所研究的Cr(VI)起始濃度范圍內(nèi),Cr(VI)起始濃度低時,C

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