浮選中礦再磨和電位調控技術對黃銅礦浮選指標的影響及機理研究.pdf

1、浮選中礦再磨是浮選流程中的重要作業(yè)。浮選中礦主要分為精選尾礦和掃選精礦兩類；中礦再磨前預處理方式主要有直接再磨，脫藥再磨和分級再磨三種。本文將浮選中礦再磨工藝和浮選礦漿電位調控技術相結合，研究了不同中礦處理方式下，再磨礦漿電位變化規(guī)律及其對浮選效果的影響。
　　首先，對黃銅礦和黃鐵礦的純礦物進行浮選電化學性質研究，發(fā)現在堿性條件下，礦漿電位小于270mV時，黃銅礦的捕收劑誘導效果明顯好于黃鐵礦的捕收劑誘導效果，這為黃銅礦浮選過程中

2、的銅硫分離，提高黃銅礦精礦品位提供了理論依據。
　　其次，對不同中礦不同處理方式下的磨礦后的礦漿電位進行了研究，發(fā)現：采用中礦再磨后粗選前礦漿電位高于原流程；不同再磨處理方式對再磨后礦漿電位影響大小排序為：分級再磨>脫藥再磨>直接再磨；礦漿電位值的大小順序為：分級再磨>直接再磨>脫藥再磨。
　　再次，研究浮選中礦再磨工藝下，浮選礦漿電位的調控規(guī)律，流程試驗表明：粗選前礦漿電位在100mV-500mV間，黃銅礦的浮選隨著電位的

3、升高，精礦品位降低，回收率升高；黃銅礦浮選的適合礦漿電位在200mV-300mV間，當礦漿電位為200mV-250mV時，有利于銅精礦品位的提高；當礦漿電位250mV-300mV時，有利于銅精礦回收率的提高。同一中礦處理方式時，粗選作業(yè)前電位控制在275mV的浮選閉路比電位控制在225mV的浮選閉路銅精礦回收率要高，品位要低；在未加電位調控藥劑時，獲得銅精礦回收率的指標大小排序為：分級再磨>直接再磨>脫藥再磨，銅精礦品位的指標大小排序為

4、：脫藥再磨>直接再磨>分級再磨；在加入電位調控藥劑將粗選前電位調控至同一范圍時，獲得銅精礦回收率的指標大小排序為：分級再磨>直接再磨>脫藥再磨，銅精礦品位的指標排序為：脫藥再磨>直接再磨>分級再磨。中礦再磨工藝能夠提高單體解離度，其提高的單體解離度幅度大小排序為：分級再磨>脫藥再磨>直接再磨。
　　最后，對中礦再磨的浮選機理進行相關研究，發(fā)現：（1）、中礦再磨有利于提高浮選礦漿中礦物表面的Zeta電位，有利于黃藥氧化成雙黃藥。（2

5、）、通過對再磨前后有機物含量的測定，發(fā)現再磨后礦物表面 CuX的含量為再磨前的70.39％，磨礦后雙黃藥含量是磨礦前的179.75%，說明再磨過程能夠將礦物表面的黃原酸鹽擦洗下來，并促進黃藥向雙黃藥的氧化；（3）、通過黃藥氧化還原反應動力學的研究，發(fā)現采用中礦再磨增加氧化劑濃度、反應溫度和活性分子碰撞幾率等因素能夠加速黃藥的氧化進程。
　　本文的創(chuàng)新點在于：（1）、較為系統的研究了浮選中礦再磨流程的礦漿電位變化規(guī)律，結果表明：中礦