電沉積Ni-P合金及Ni-P-ZrO-,2-納米復合鍍層的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文采用電沉積方法,對亞磷酸體系Ni-P合金及Ni-P-ZrO2納米復合鍍層的工藝進行了研究,探討了電沉積工藝參數(shù)及熱處理溫度對鍍層表面形貌、組織結構與性能的影響,研究和分析了Ni-P合金及其納米復合鍍層的耐磨性能及耐磨機理?! ‰姵练eNi-P合金的工藝研究表明,鍍層中的P含量受鍍液中H3PO3濃度和電流密度影響,在30g/L以內(nèi)增加鍍液中H3PO3濃度,可提高鍍層中的P含量;增大電流密度,鍍層P含量下降;提高施鍍溫度和電流密度均使沉

2、積速度增大?! 崽幚砗驨i-P合金鍍層的XRD分析表明,Ni-11.3wt%P鍍層隨溫度升高逐步發(fā)生的晶化過程為:非晶態(tài)→Ni5P2亞穩(wěn)相+Ni3P+Ni固溶體→Ni3P+Ni,其間有亞穩(wěn)中間相Ni5P2出現(xiàn);而Ni-4.3wt%P鍍層隨溫度升高發(fā)生Ni3P相的沉淀析出和聚集長大?! ‰姵练eNi-P-ZrO2納米復合鍍層的工藝研究發(fā)現(xiàn),適當增加鍍液中ZrO2粒子的濃度、加大攪拌強度,可提高鍍層中的粒子含量;增大陰極電流密度,鍍層

3、表面粒子含量隨之增加,而鍍層內(nèi)部的粒子含量卻隨之減少;鍍層中粒子含量隨pH值增大而增加,pH值>1.3時反之;XRD分析結果表明,ZrO2納米粒子的存在,不影響Ni-P基質(zhì)合金的非晶態(tài)結構及其在適當熱處理溫度下的晶化過程,但晶化溫度有所提高?! 〗?jīng)不同溫度熱處理后,發(fā)現(xiàn)隨著熱處理溫度的升高,Ni-4.3wt%P合金鍍層、Ni-11.3wt%P非晶態(tài)鍍層及Ni-P-ZrO2納米復合鍍層的硬度明顯提高,耐磨性隨之增強。但Ni-11.3wt

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