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文檔簡(jiǎn)介
1、非晶FeSi2與晶態(tài)β-FeSi2相似,具有半導(dǎo)體性能,室溫下有0.89~0.90 eV的直接帶隙,且長(zhǎng)程無(wú)序狀態(tài)的非晶態(tài)β-FeSi2能有效回避晶格失配、缺陷以及多相摻雜等問(wèn)題,易于大面積生長(zhǎng),制備工藝簡(jiǎn)單。所以非晶FeSi2有望替代晶態(tài)β-FeSi2,實(shí)現(xiàn)鐵硅化物在能源領(lǐng)域的大規(guī)模應(yīng)用。
由于非晶FeSi2光電性能強(qiáng)烈依賴于非晶態(tài)中的短程有序,本文從β-FeSi2相的基本團(tuán)簇出發(fā),利用“團(tuán)簇+連接原子”結(jié)構(gòu)模型設(shè)計(jì)成分,采
2、用吸鑄法制備了Fe4Si8-xMx(M=Sn、C、Al)合金棒樣品,還用磁控濺射的方法在Si(100)和Al2O3(0001)制備了Fe3M1 Six(M=B、Cr、Ni、Co)和Fe-Si-Al系薄膜樣品。旨在選擇合適的第三組元進(jìn)行合金化,考察合金化對(duì)非晶形成能力和光電性能的影響,尋找提高非晶形成能力和非晶相穩(wěn)定性的有效途徑,為非晶FeSi2的合成和應(yīng)用打下良好基礎(chǔ)。通過(guò)分析主要結(jié)論如下:
(1)由于冷卻速度不夠,鑄態(tài)合金棒
3、樣品均為晶體多相共存的狀態(tài),添加C和Sn的樣品還出現(xiàn)了不同程度的偏析現(xiàn)象。在850℃/12h退火后,各合金棒中有較多的β相生成;且偏析的SiC有熔解跡象,如果進(jìn)一步退火,有望得到較為均勻的組織;但偏析的Sn在退火后仍團(tuán)聚在一起,說(shuō)明添加Sn來(lái)制備β相是不可行的。
(2)濺射態(tài)薄膜樣品均為非晶態(tài),并且當(dāng)B、Cr和Al作為第三組元時(shí),制備出了具有半導(dǎo)體性能的非晶薄膜,且第三組元不同,制備的非晶薄膜其帶隙變化范圍不同。在Fe3Cr1
4、Six(3.8≤x≤17.3)系薄膜中,隨著x含量的增加,即Cr含量的減少,帶隙寬度從0增加到0.65eV;在Fe3B1Six(5.4≤x≤9.9)系薄膜中,隨著x含量的增加,帶隙在0.65~0.60eV小范圍內(nèi)變化;添加Al時(shí),帶隙在0~0.60 eV之間?;魻栃?yīng)結(jié)果表明,當(dāng)B和Al作為第三組元時(shí),遷移率(101量級(jí))和載流子濃度(1019~1020量級(jí))可達(dá)到與二元β-FeSi2薄膜相近。
(3)對(duì)Fe3M1 Six(M
5、=B、Cr、Ni、Co)系列中部分樣品進(jìn)行850℃/4h退火處理后,結(jié)構(gòu)分析結(jié)果顯示B、Cr、Ni、Co四種元素對(duì)于退火后晶化過(guò)程的作用是不同的。相比較而言,F(xiàn)e2.7Si8.4B0.9薄膜具有單一的β相且半導(dǎo)體性能較為明顯,其電阻率為0.17Ω·cm、載流子濃度為2.8×1020 cm-3、遷移率為0.13 cm2/V·s,帶隙寬度約為0.65 eV。所以引入合適的第三組元可以擴(kuò)展β相相區(qū),并實(shí)現(xiàn)晶態(tài)三元β型硅化物薄膜與二元β-FeS
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