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1、隨著現(xiàn)代科學技術(shù)的飛速發(fā)展,生活、工業(yè)、國防等各領(lǐng)域?qū)υ骷男阅芎统叽绲囊笳谠诓粩嗵岣?大規(guī)模集成電路和部分微納米器件的尺寸已經(jīng)達到了納米量級,而且器件尺寸還在朝著不斷縮小的趨勢發(fā)展。同時,隨著對器件尺寸的要求不斷提高,加工難度與制造成本也在不斷上升。本課題的研究目的是設(shè)計出一種兼顧亞波長尺度聚焦與低加工難度的光學聚焦器件。
本文設(shè)計一種加工難度較低的亞波長聚焦器件。利用亞波長金屬狹縫對表面等離子體波的相位延遲效應(yīng)以及金
2、屬薄膜對光的異常透射作用,設(shè)計了可以實現(xiàn)準遠場任意位置聚焦的低最大深寬比要求的多層非周期金屬光柵。通過時域有限差分方法進行數(shù)值仿真,表明對650nm的橫磁模入射光,可以得到亞波長尺度的聚焦光斑。本器件設(shè)計中,對最大深寬比的要求低于10:1,最小線寬要求為20nm。本文對加工時各層金屬光柵之間的對準誤差進行仿真,得出此結(jié)構(gòu)不但具有低深寬比要求的特點,同時還對各層結(jié)構(gòu)加工時的對準精度不敏感的結(jié)論,可以通過現(xiàn)行主流加工工藝水平實現(xiàn)。最后介紹了
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