鎂合金陽極氧化膜性能的電化學研究.pdf

1、鎂合金被譽為是21世紀最富有開發(fā)和應用潛力的“綠色工程材料”，由于其具有其他結構金屬所無法比擬的優(yōu)良特性，被廣泛地應用于汽車、航空航天以及通訊制造等工業(yè)中，但是由于鎂合金的耐腐蝕性差制約了鎂合金應用的進一步擴展,而陽極氧化技術是最有潛力的表面處理技術之一。
　　本文研究了陽極氧化工藝參數(shù)氧化時間、電流密度和溫度對鎂合金AZ31陽極氧化膜的制備及性能的影響，并對工藝參數(shù)進行優(yōu)化。利用SEM和交流阻抗技術研究陽極氧化膜的生長過程。利用

2、電化學噪聲研究鎂合金AZ31及其氧化膜的腐蝕過程。研究結果表明：
　　1、氧化時間和電流密度對氧化膜的形成是正影響，參數(shù)值越大，氧化膜越容易形成，但是值過大后，會造成氧化膜粗糙，耐腐蝕性能變差。溫度對氧化膜對氧化膜的形成是負影響，溫度越高氧化膜越不易形成，當溫度超過50℃后，陽極氧化不能進行。
　　2、確定了鎂合金AZ31的陽極氧化最優(yōu)化工藝參數(shù)：氧化時間為20min，電流密度為10mA/cm2，氧化溫度為20℃。