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文檔簡介
1、非線性光學材料是大多數光電器件設計和應用的物理基礎。將非線性光學材料周期性地摻雜在電介質中,利用結構可以調控常規(guī)非線性材料的非線性光學參數,從而為基于非線性效應的光電元器件設計提供新的自由度。因此,如何準確預測微結構光子材料的等效非線性光學參數成為基于微結構的新型光電器件設計首先要解決的問題。本文主要圍繞三階非線性效應,建立了基于時域有限差分法的數值Z掃描測量方法,研究含Kerr介質微結構材料的等效三階非線性折射率系數,取得了一些結果,
2、具體概括如下。
(1)對比與分析了當前測量非線性介質非線性光學系數的各種測量方法如簡并四波混頻法、泵浦光源探測法、非線性干涉技術、橢圓偏振法、光束畸變的測量以及光克爾效應法等測量材料非線性光學系數的原理,分別對其適用范圍和優(yōu)劣做出了比較。
(2)對比Z掃描實驗,根據數值模擬的特點建立了一種基于時域有限差分法的數值Z掃描方法,以CS2微結構介質板為例,結合先前的理論對其三階非線性折射率系數進行了提取。結果表明與理論值幾
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