納米位移測量中的干涉條紋技術研究.pdf

1、納米技術的研究已經成為社會發(fā)展的必然趨勢，而納米測量技術在納米技術中又占據(jù)了極其重要的位置，所以說納米技術的發(fā)展離不開納米測量技術。納米測量技術包括：納米級精度的尺寸和位移的測量，納米級表面形貌的測量以及納米級物理與化學特性的測量等。
　　 本文討論的是納米位移測量中的干涉條紋技術，主要研究在干涉納米位移測量中以CCD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的光電探測器作為條紋拾取工具，通過對圖像相關運算得到干涉光強相關曲線，再經插補實現(xiàn)對條紋的細分及對納米位

2、移的精確測量。使用這個方法的優(yōu)點是CCD陣列與相關運算可降低噪聲的影響。該方法也可以用于分析激光干涉納米光刻產生的納米結構圖案的質量(特征參數(shù)的均勻性)。
　　 本文設計了相關運算和插補方法求相位差的方案，其中使用Matlab軟件對已知的兩干涉條紋實現(xiàn)相關運算和插補。首先在已知的兩等間隔的干涉條紋圖形中，取兩相同大小的圖像塊分別做自相關和互相關，再經插補的方法對條紋進行細分。通過得到的曲線圖形和數(shù)值，分析并計算出相位差值。實驗結