EVOH-蒙脫土納米復合材料的制備、結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf

1、聚合物/層狀硅酸鹽納米復合材料是以聚合物為基體，以納米分散的硅酸鹽片層作為填料的新型復合材料，由于它在改善聚合物的力學性能、阻隔性能、阻燃性能、光學性能等方面性能的優(yōu)良表現(xiàn)，近幾年得到了廣泛的研究。
　　本課題研究了 EVOH/蒙脫土納米復合材料體系的制備、結(jié)構(gòu)、性能，主要內(nèi)容如下：
　　首先,采用不同改性劑對蒙脫土進行插層改性，通過紅外分析（FT-IR）、X-射線衍射（XRD）和掃描電鏡（SEM）對插層效果進行分析；并對其

2、與聚合物的相容性進行研究。實驗結(jié)果表明：陽離子改性劑中雙十八烷基二甲基氯化銨改性效果較好，蒙脫土層間距由1.42nm增加至3.5nm。硅烷偶聯(lián)劑KH550用量為5％（質(zhì)量分數(shù)）時，蒙脫土與聚合物相容性最佳。
　　其次,采用了溶液插層和熔融插層兩種方法制備了 EVOH/蒙脫土納米復合材料，并對制備的納米復合膜進行紫外輻照研究。實驗結(jié)果表明：采用熔融插層法制備的EVOH/蒙脫土納米復合材料的性能優(yōu)于溶液插層法制備的復合材料，經(jīng)紫外輻照

3、處理8h后的EVOH/蒙脫土納米復合膜的力學性能，阻隔性能都得到較大程度的提高。
　　最后,對熔融插層法制備的EVOH/蒙脫土納米復合材料經(jīng)紫外輻照處理后的結(jié)晶性能、流變性能、力學性能、光學性能、阻隔性能等進行了研究。研究結(jié)果表明：通過對 EVOH/蒙脫土納米復合材料進行FT-IR、XRD等表征發(fā)現(xiàn)，蒙脫土已插層進EVOH聚合物中，且層間距得到進一步增加，其在聚合物中分散較均勻，形成了部分剝離的插層型納米復合材料。
　　少量

4、蒙脫土在聚合物中能起到異相成核作用，能提高復合材料結(jié)晶度。EVOH/蒙脫土納米復合材料熔體為非牛頓流體，隨剪切速率增加，剪切粘度下降，即存在剪切變稀現(xiàn)象；隨著有機蒙脫土含量的增加，熔體粘度升高。蒙脫土含量為5%時，EVOH/OMMT納米復合材料的拉伸強度、阻隔氧氣性能相對于純EVOH分別提高了26%、21%；而當蒙脫土含量為3%時，復合材料的撕裂強度和阻隔水蒸汽性能分別提高了20%、38%；而當蒙脫土含量為1%時，復合材料的抗沖擊性能提