顆粒錫膜的制備與形貌及氣敏性能.pdf

1、顆粒金屬是指金屬和絕緣體的復(fù)合材料，而顆粒錫膜則屬于另一種形式的顆粒金屬，它形成于金屬薄膜沉積的初始階段，由表面覆蓋高阻值氧化物的金屬顆粒組成。由于獨(dú)特的結(jié)構(gòu)，顆粒錫膜電導(dǎo)性在原子尺度上極其不均勻，超導(dǎo)性、光學(xué)、電學(xué)以及結(jié)構(gòu)特性均引起了人們極大的興趣，成為研究的對象。本文利用電阻式真空蒸鍍系統(tǒng)在室溫和高溫氧氛圍下制備出了顆粒錫膜，并對其形貌和氣敏性進(jìn)行了探索。
　　 為了探索顆粒錫膜形成的具體條件及基片溫度、氧壓和蒸發(fā)功率對顆粒

2、錫膜形貌的影響，利用電阻式真空蒸鍍系統(tǒng)結(jié)合自制蒸發(fā)源在室溫和加熱基片兩種情況下制備出了顆粒錫膜。研究發(fā)現(xiàn)，在室溫條件下，氧壓需達(dá)到一定值（≥1.0×10-2Pa）才能得到形狀規(guī)則的球冠形顆粒；在加熱基片溫度下，氧的存在有助于薄膜形成規(guī)則形狀，但同時促進(jìn)了團(tuán)簇生長，薄膜顆粒較大。
　　 對影響顆粒錫膜形貌的相關(guān)因素研究發(fā)現(xiàn)，沉積速率對顆粒錫膜形貌并無實(shí)質(zhì)性影響，但薄膜形貌與氧壓及基片溫度強(qiáng)烈相關(guān)。隨著氧壓升高，錫膜顆粒粒徑變小，形