鈮酸鋰和鉭酸鋰光波導(dǎo)的機(jī)理研究.pdf

1、該文第一部分介紹有關(guān)的基本概念與原理及相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)技術(shù),如波導(dǎo)的線光學(xué)理論,反射計(jì)算算法(RCM),棱鏡耦合法,盧瑟福背散射/溝道測量,波導(dǎo)損耗的測量方法等.第二部分以質(zhì)子交換鈮酸鋰與鉭酸鋰波導(dǎo)的性質(zhì)做了一些研究.用盧瑟福背散射/溝道技術(shù)分析了質(zhì)子交換鈮酸鋰波導(dǎo)的晶格畸變,首次得出了鈮原子的位移分布,發(fā)現(xiàn)在X切樣品中的鈮原子的位移程度大于Z切樣品,X切樣品的位移分布較均勻,對樣品退火后,晶格畸變減小.用棱鏡耦合法測量了鉭酸鋰波導(dǎo),發(fā)現(xiàn)在波

2、導(dǎo)中存在干涉現(xiàn)象,用光纖掃描法測量波導(dǎo)損耗為0.7dB/cm,用盧瑟福背散射/溝道技術(shù)分析了晶格畸變.第三部分介紹了H離子注入和Ni離子鈮酸鋰形成光學(xué)位壘型波導(dǎo)的研究.用RCM方法擬合了鈮酸鋰波導(dǎo)的折射率分布,研究了退火對折射率發(fā)布的影響,并用盧瑟福背散射/溝道技術(shù)測量了波導(dǎo)區(qū)的損傷.發(fā)現(xiàn)在較高劑量(9×10<'14>ions/cm<'2>)的Ni離子入的波導(dǎo)層,晶格有較大的損傷.第四部分介紹了低劑量重離子注入鈮酸鋰形成折射率增高型波導(dǎo)