版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、集成電路和表面安裝技術(shù)的飛速發(fā)展,促使ZnO壓敏電阻向小型化、低壓化方向發(fā)展。疊層片式化是目前實(shí)現(xiàn)ZnO基壓敏電阻低壓化的最佳方式。為降低疊層片式壓敏電阻的生產(chǎn)成本,要求ZnO基陶瓷在具有優(yōu)良的電學(xué)非線性、均勻顯微結(jié)構(gòu)的同時(shí),還要具較低的燒結(jié)溫度。這樣,就可以用Aged比較大、甚至是純Ag內(nèi)電極取代目前被廣泛使用的價(jià)格昂貴的低Ag/Pd比內(nèi)電極。為此本文比較系統(tǒng)深入地研究了ZnVSb壓敏電阻陶瓷的低溫?zé)Y(jié)和電性能,主要包括以下內(nèi)容:
2、 在綜合分析摻雜元素對(duì)ZnO壓敏電阻陶瓷燒結(jié)、顯微結(jié)構(gòu)和性能影響的基礎(chǔ)上提出了低壓ZnO壓敏電阻的組份設(shè)計(jì)原則,并確定了ZnVSb陶瓷的基本組份:以ZnO-V<,2>O<,5>二元系為基、以Sb摻雜作為主要的顯微組織調(diào)節(jié)劑和改性劑、以Mn和Co作為主要的非線性促進(jìn)劑。 以基本組份為基礎(chǔ),研究了Sb以P-Ⅰ型V/Sb前驅(qū)體、P-Ⅱ型V/Sb前驅(qū)體、Sb<,2>O<,3>和α-Zn<,7>Sb<,2>O<,12>尖晶石等四種摻雜
3、對(duì)ZnVSb壓敏電阻陶瓷顯微結(jié)構(gòu)和性能的影響,揭示了P-Ⅰ、P-Ⅱ型V/Sb前驅(qū)體和Sb<,2>O<,3>摻雜ZnVSb陶瓷中尖晶石的形成機(jī)理,以及V/Sb前驅(qū)體和ZnSb尖晶石相含量對(duì)ZnVSb壓敏電阻陶瓷顯微組織均勻性和壓敏特性的影響規(guī)律。以上四種Sb摻雜均可以使陶瓷顯微結(jié)構(gòu)均勻化。前三種ZnVSb陶瓷中, Sb摻雜形式的變化,降低了化學(xué)反應(yīng)中間產(chǎn)物ZnSb<,2>O<,6>的形成溫度,促進(jìn)了ZnSb尖晶石相形成。因此,ZnVSb陶
4、瓷晶粒逐步細(xì)化,摻雜元素在晶界的偏聚加劇,陶瓷的非線性特性逐步改善,但壓敏電壓也隨之升高。0~1.5m01%P-Ⅰ型前驅(qū)體或尖晶石摻雜的ZnVSb陶瓷也表現(xiàn)出類似的變化,非線性系數(shù)從摻雜量為零時(shí)的20左右一直提高至摻雜量為1.5mol%時(shí)的80 以上,壓敏電壓則從162V/mm升高到1250V/mm以上,陶瓷的最低成瓷溫度從900℃提高至950℃以上。從ZnVSb陶瓷在低壓應(yīng)用方面的角度考慮,無論Sb以何種方式進(jìn)行摻雜,其摻雜量應(yīng)被限制
5、在0.5mol%以下。 采用唯象晶粒生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)公式G<'n>-G<'n><,0>=K<,0>texp(-Q/RT),對(duì)以上四種Sb摻雜總量相當(dāng)于0.5mol%Sb<,2>O<,3>的ZnVSb陶瓷燒結(jié)過程中的晶粒生長(zhǎng)行為進(jìn)行了定量分析,通過實(shí)驗(yàn)確定出四種ZnVSb陶瓷的晶粒生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)指數(shù)和晶粒生長(zhǎng)激活能,分別為:2.44、218KJ/mol,2.49、292KJ/mol, 4.03、356KJ/mol,和2.56、236KJ/m
6、ol。ZnVSb陶瓷的燒結(jié)過程主要受到液相輔助及尖晶石相釘扎的雙重機(jī)理控制。Sb摻雜形式的變化,主要通過影響陶瓷在燒結(jié)過程中液相和尖晶石的形成來影響陶瓷的顯微結(jié)構(gòu)和電性能。 P-Ⅰ型V/Sb前驅(qū)體摻雜量相當(dāng)于 0.5mol%Sb<,2>O<,3>的最優(yōu)組份ZnVSb陶瓷在900℃即可燒結(jié)成瓷,顯微結(jié)構(gòu)均勻、相對(duì)致密度>97%、非線性系數(shù)為56,壓敏電壓為556V/mm,漏電流密度為26μA·cm<'-2>。 以最優(yōu)組份ZnVSb
7、陶瓷為基礎(chǔ),以電子陶瓷生產(chǎn)通用的氧化物為原料,采用流延工藝試制了單片及疊層壓敏電阻。優(yōu)化了制備工藝,解決了流延薄片翹曲變形的難題,成功制備出表面平整、厚度在500μm以下的單片 ZnVSb基壓敏電阻。并研究了素坯體厚度對(duì)單片壓敏電阻電性能的影響。當(dāng)素坯體厚度小于1mm時(shí),隨著厚度的降低,晶界特性的不均勻性對(duì)陶瓷電性能的負(fù)面影響逐步增大,單片壓敏電阻的非線性系數(shù)及工作電壓逐步隨之降低。 初步研究了Ag內(nèi)電極/ZnVSb壓敏電阻陶瓷
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- ZnO壓敏電阻的低溫?zé)Y(jié)及晶界電性能研究.pdf
- zno壓敏電阻的低溫?zé)Y(jié)及晶界電性能研究(1)
- 低溫?zé)Y(jié)BST基介電陶瓷的性能研究.pdf
- 低溫?zé)Y(jié)ZnO壓敏電阻材料的研究.pdf
- ZnO-Bi2O3基壓敏電阻低溫?zé)Y(jié)及摻雜改性研究.pdf
- 鋅硼玻璃基低溫?zé)Y(jié)陶瓷的微波介電性能研究.pdf
- 低壓ZnO壓敏電阻的低溫?zé)Y(jié)及水基流延制備片式壓敏電阻器的研究.pdf
- ZnO壓敏電阻的低溫?zé)Y(jié)及流延法制膜研究.pdf
- MgTiO3基微波介質(zhì)陶瓷的低溫?zé)Y(jié)及介電性能研究.pdf
- 低溫?zé)Y(jié)多層片式ZnO壓敏電阻器的研究.pdf
- 鋰基微波陶瓷的結(jié)構(gòu)、低溫?zé)Y(jié)及性能研究.pdf
- BNT微波介質(zhì)陶瓷制備、低溫?zé)Y(jié)及電性能的研究.pdf
- CaTiO3基微波介質(zhì)陶瓷的摻雜改性、低溫?zé)Y(jié)及介電性能的研究.pdf
- 低溫?zé)Y(jié)BST陶瓷的粉體制備及介電性能研究.pdf
- 低溫?zé)Y(jié)ZnO-玻璃系壓敏電阻材料及機(jī)理研究.pdf
- 氧化鋅壓敏電阻低壓化制備與低溫?zé)Y(jié)研究.pdf
- 四足狀ZnO納米粉末及低溫?zé)Y(jié)壓敏電阻材料研究.pdf
- Li2MgSiO4基微波介質(zhì)陶瓷的低溫?zé)Y(jié)及微波介電性能.pdf
- 低溫?zé)Y(jié)PZT-PFW-PMN系壓電陶瓷電性能的研究.pdf
- 低溫?zé)Y(jié)(Zn1-xMgx)2SiO4基陶瓷的微波介電性能研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論