電容層析成像技術(shù)在兩相流檢測中的應(yīng)用研究.pdf

1、近些年發(fā)展起來的過程層析成像(PT)技術(shù)在兩相流/多相流流動參數(shù)分布狀況的測量方面取得了一定的進(jìn)展,成為解決兩相流參數(shù)檢測的有效手段,具有很大的潛力和廣闊的工業(yè)應(yīng)用前景.電容層析成像(ECT)技術(shù)是基于電容敏感原理的過程層析成像(PT)技術(shù),具有非輻射、非侵入、響應(yīng)速度快、成本低廉和安全性能好等優(yōu)點(diǎn),已發(fā)展成為一門重要的兩相流參數(shù)檢測技術(shù).但ECT技術(shù)發(fā)展至今還有一些不完善的地方,在系統(tǒng)設(shè)計(jì)以及應(yīng)用上尚存在不少問題和難點(diǎn).本文針對ECT

2、系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了深入的研究.主要完成的工作如下:1.在分析現(xiàn)有流動層析成像技術(shù)基礎(chǔ)上,對兩相流特點(diǎn)及參數(shù)進(jìn)行了分析和歸納,分析了兩相流參數(shù)檢測技術(shù)的發(fā)展歷史和現(xiàn)狀,指出了兩相流參數(shù)測量對于科研及工業(yè)生產(chǎn)的重要意義,對未來兩相流參數(shù)測量的研究方向及發(fā)展趨勢進(jìn)行了分析和總結(jié).并對過程層析成像系統(tǒng)的基本原理及系統(tǒng)組成、基本特點(diǎn)和發(fā)展現(xiàn)狀進(jìn)行了簡介,介紹了基于不同敏感原理的過程層析成像技術(shù).2.為滿足電容層析成像系統(tǒng)對電容測量苛刻的要求,設(shè)計(jì)