MRI檢查中不同口腔金屬材料偽影及偽影控制的實(shí)驗(yàn)研究.pdf

1、目的： 通過實(shí)驗(yàn)，在磁共振成像(magnetic resonance imaging，MRI)不同序列中，比較分析不同口腔金屬材料產(chǎn)生的偽影面積，并調(diào)整相關(guān)成像參數(shù)進(jìn)一步比較偽影面積的變化，為臨床選擇適宜MRI檢查的金屬修復(fù)材料、選擇利于金屬偽影控制的成像序列，以及各序列成像參數(shù)的優(yōu)化提供實(shí)驗(yàn)依據(jù)。 材料與方法： MRI檢查設(shè)備為1.5TGETwinspeed Infinity ExciteII磁共振成像系統(tǒng)(后

2、文稱成像儀)，采用8通道頭線圈，選擇6種臨床常用的口腔金屬材料分別制成左下6標(biāo)準(zhǔn)鑄冠模型，包括鎳鉻合金、鈷鉻合金、鈦合金、純鈦、銀鈀合金和金鈀合金，并以丙烯酸樹脂材料作為對照。1、每一模型均采用七種臨床常用序列(GRET*2WI、SET1WI、FSET1WI、FSET2WI、FLAIRT1WI、FLAIRT2WI、EPI-SE)及其參數(shù)(以后簡稱標(biāo)準(zhǔn)序列)進(jìn)行檢查，分別測量各序列圖像中每一模型所產(chǎn)生的偽影面積并進(jìn)行分析比較，統(tǒng)計(jì)學(xué)處理采

3、用協(xié)方差分析；2、選擇三種代表序列(GRET*2WI、SET1WI、FSET2WI)，分別調(diào)整與圖像偽影密切相關(guān)的參數(shù)，如TE、FOV、BW等，比較各參數(shù)調(diào)節(jié)后三種代表性金屬材料(鈷鉻合金、鈦合金、金鈀合金)與標(biāo)準(zhǔn)序列中的偽影面積大小，統(tǒng)計(jì)學(xué)處理采用方差分析和t檢驗(yàn)。 結(jié)果： 1、在各標(biāo)準(zhǔn)序列條件下，除EPI-SE序列圖像變形嚴(yán)重?zé)o法測量外，其余各序列均顯示不同材料的金屬模型圖像偽影面積大小存在差異，有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(F=8

4、7.31，P<0.000)，其中，金鈀合金、銀鈀合金與對照材料相比，偽影大小差別無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P>0.05)；而相同金屬模型在不同序列圖像中產(chǎn)生的偽影大小亦各不相同，差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(F=36.73，P<0.000)，其中，GRET*2WI序列圖像產(chǎn)生的偽影面積最大。2、調(diào)節(jié)各序列成像參數(shù)與標(biāo)準(zhǔn)序列比較，發(fā)現(xiàn)參數(shù)的改變對偽影面積大小有影響：①TE改變對偽影大小的影響：GRET*2WI序列中鈦合金、金鈀合金偽影面積隨TE改變而改變，差別有

5、統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)；SET1WI序列中三種金屬偽影隨TE改變，差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)；隨著TE時間的延長，偽影面積增加。②ETL改變對偽影面積大小的影響：FSET2WI序列中，金鈀合金偽影隨ETL改變而改變，差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(p<0.05)，ETL增加，偽影面積減小。③激勵次數(shù)(numberofexcitation，NEX)對偽影面積大小的影響：三種序列中各金屬偽影面積大小隨NEX變化，差別均無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P>0.05

6、)，但是NEX增加，圖像信噪比增加。④帶寬(bandwidth，BW)改變對偽影面積大小的影響：SET1WI和FSET2WI序列中三種金屬的偽影面積隨BW的變化，差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)，BW減小，偽影面積增加。⑤視野(fieldofview，F(xiàn)OV)改變對偽影面積大小的影響：GRET*2WI序列中，鈦合金、金鈀合金偽影面積隨FOV的變化，差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)；FSET2WI序列中，三種金屬的偽影面積隨FOV的變化，

7、差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)；均隨著FOV增加，偽影增大。⑥矩陣(matrix)改變對偽影面積大小的影響：GRET*2WI序列中鈷鉻合金、鈦合金偽影面積的差別隨矩陣變化有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)，矩陣增加，偽影減小。⑦層厚改變對偽影大小的影響：FSET2WI序列中金鈀合金偽影面積的差別隨層厚變化有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P<0.05)，層厚減小，偽影面積增加。⑧翻轉(zhuǎn)角(flipangle，F(xiàn)A)改變對偽影大小的影響：GRET*2WI序列中，三