HEDP和ATMP及其取代物緩蝕阻垢性能的QC-MD研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁，還剩54頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進行舉報或認領

文檔簡介

1、運用量子化學密度泛函(DFT)理論，在B3LYP/6-31G﹡水平上，優(yōu)化了ATMP及其取代物和氨基膦酸類分子的分子結(jié)構(gòu)，通過計算得出了原子電荷分布、分子最高被占軌道能量(HOMO)、最低空軌道能量(LUMO)、能隙差(ΔE)及Fukui指數(shù)等量子化學參數(shù)，并且研究了這些量化參數(shù)和緩蝕阻垢性能之間的構(gòu)效關系。其中ATMP及其取代物中膦酸基團和羧基上的氧原子的電荷和供電子能力與阻垢緩蝕性能相關性較好。氨基膦酸類化合物苯環(huán)的得電子能力與緩蝕

2、性能相關性很好。 運用分子動力學模擬軟件Material Studio中的Discover模塊，在NVT系綜和COMPASS力場下，分別模擬了HEDP和ATMP及其取代物在方解石(104)、(113)、(202)和(102)晶面以及鐵(100)晶面上的相互作用情況，獲得了各體系的結(jié)合能、非鍵作用能、形變能及徑向分布函數(shù)等，探討其阻垢緩蝕作用機理。通過結(jié)合能得到化合物阻垢緩蝕性能的比較，并通過徑向分布函數(shù)發(fā)現(xiàn)阻垢劑中的氧原子與方解

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論