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文檔簡介
1、本文用脈沖偏壓電弧離子鍍技術(shù)在鋁高速鋼(HSS-Al)和冷作模具鋼(Cr12)基體上分別制備了單層(Ti，Al)N薄膜、不同脈沖偏壓幅值下的TiN/(Ti，Al)N復(fù)合多層薄膜。利用掃描電子顯微鏡(SEM)并結(jié)合原子力顯微鏡(AFM)對不同偏壓幅值工藝參數(shù)下制備的單層(Ti，Al)N薄膜表面形貌進行觀察，利用X射線衍射儀(XRD)對TiN/(Ti，Al)N復(fù)合多層薄膜的結(jié)構(gòu)進行了分析。硬度是硬質(zhì)薄膜力學性能中一個非常重要的性能指標，本文
2、用維氏顯微硬度儀測量TiN/(Ti，Al)N復(fù)合多層薄膜的硬度。 SEM和AFM觀察表明，隨著脈沖偏壓幅值的增大，薄膜表面大顆粒數(shù)量減少，薄膜表面變得光滑致密 通過復(fù)合多層膜斷面的SEM觀察，可以清晰地看到層與層之間有明顯的界面形成，光滑平整，厚度比較均勻。 能量色散X射線譜分析表明，隨著脈沖偏壓幅值的增加，薄膜中鋁含量先增加，后減少，在150V時達最大值36.41at％。 TiN/(Ti，Al)N復(fù)合多
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