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文檔簡介
1、粒子場廣泛存在于各種工業(yè)及研究領(lǐng)域,研究粒子場中的粒子直徑及空間分布對生產(chǎn)優(yōu)化有非常重要的意義。本課題研究了激光干涉成像粒子尺寸測量技術(shù),該技術(shù)具有非接觸性、測量精度高、速度快等優(yōu)點,其原理是利用片狀激光束照射粒子場,激光與粒子相遇發(fā)生散射,CCD相機在側(cè)向記錄粒子散射光成像,通過提取粒子圖像中的干涉條紋信息來獲得粒子的直徑和位置信息。本文所做的主要工作如下:
1.基于相位差法和楊氏干涉法對激光干涉成像粒子尺寸測量技術(shù)的原
2、理進行了研究,討論了散射角、入射光波長、收集角和折射率對測量結(jié)果的影響。
2.基于連續(xù)半導體激光器和CCD相機搭建了激光干涉成像粒子測量系統(tǒng),分別對直徑51.1μm和119.4μm的標準粒子進行了測量實驗。采用卷積方法實現(xiàn)粒子定位,從粒子圖像傅立葉變換頻譜圖中提取其干涉條紋信息,代入測量公式求得粒子直徑。粒徑為51.1μm和119.4μm的標準粒子測量值分別為47.94μm和111.24μm,相對誤差分別為6.2%和6.8
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