畢業(yè)論文--薄膜制造技術(shù)與工藝的研究

1、<p>　　畢 業(yè) 論 文</p><p>　　薄膜制造技術(shù)與工藝的研究</p><p>　　學院:電子信息工程學院</p><p><b>　　專業(yè)：光電子技術(shù)</b></p><p>　　2014年11月17日</p><p>　　摘要：根據(jù)太陽電池陣激光防護膜性能優(yōu)化的需要，

2、應(yīng)用離子輔助電子束雙源共蒸工藝方法制備了優(yōu)化設(shè)計所需的特定折射率的薄膜材料并用于制備激光防護膜。 測試結(jié)果顯示：用該工藝方法制備的摻雜材料薄膜的折射率 n ＝１.７５，與優(yōu)化設(shè)計所需數(shù)值相符；激光防護膜性能優(yōu)良，太陽輻射能透過率提高６％以上，實現(xiàn)了對該激光防護膜性能的進一步優(yōu)化。 為了使該雙源共蒸方法適于大面積薄膜的制備，應(yīng)用均勻性擋板技術(shù)來提高該方法制備大面積薄膜的膜厚均勻性，使制備的摻雜材料薄膜在口徑為４００ ｍｍ 時的不均勻性小于

3、２.１％。 該雙源共蒸方法制備工藝簡單、可靠，適于實際工程應(yīng)用。 薄膜性能測試結(jié)果與理論優(yōu)化結(jié)果相符，達到預(yù)期優(yōu)化目標。</p><p>　　關(guān)　鍵　詞：薄膜材料；激光防護膜；折射率；摻雜；雙源共蒸</p><p>　　Abstract：According to the solar cell array laser protective film performance optimizat

4、ion, application of ion assisted beam double source preparation needed for the optimal design methods of steaming process specific refractive index of thin film materials and used for the preparation of laser protective

5、film. Test results show that using the process method of the preparation of doped materials film refractive index n = 1 . 75, consistent with the numerical optimization design; Laser protective </p><p>　　.Ke

6、y Words：Thin film materials; Laser protective film; The refractive index. Doping; Dual-source were steamed.</p><p><b>　　目 錄</b></p><p>　?。薄∫⊙?....................................

7、...................5</p><p>　　1.1光學薄膜簡介...................................................5</p><p>　　1.1.1簡介......................................................5</p><p>　　1.1.2特點.

8、.....................................................5</p><p>　　1.1.3分類......................................................5</p><p>　　1.1.4制備...................................................

9、...6</p><p>　　1.1.5應(yīng)用......................................................6</p><p>　　1.2光學薄膜的發(fā)展及分類、關(guān)鍵技術(shù)匯總.............................7</p><p>　　2　特定折射率材料的需求.......................

10、................9</p><p>　　3.特定折射率材料的制備........................................10</p><p>　　3．1　以往摻雜材料制備............................................10</p><p>　　3．2　雙源共蒸法.............

11、.....................................11</p><p>　　3．3　均勻性保證..................................................12</p><p>　　４.　結(jié)果與討論................................................12</p><

12、p>　　５　結(jié)　論......................................................14</p><p>　　參考文獻........................................................15</p><p>　　致謝..........................................

13、...................17</p><p><b>　?。薄∫⊙?lt;/b></p><p><b>　　1.1光學薄膜簡介</b></p><p>　　光學薄膜（optical coating）是由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的，通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W介質(zhì)材料。光學薄膜的應(yīng)用始于20世紀30年代。現(xiàn)代，光學薄膜已廣

14、泛用于光學和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學儀器。</p><p><b>　　1.1.1簡介</b></p><p>　　光學薄膜是涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層，通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透（折）射和偏振等特性，以達到人們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態(tài)的光。</p>

15、<p><b>　　1.1.2特點</b></p><p>　　光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射

16、；膜層之間的相互滲透形成擴散界面；由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復雜的時間效應(yīng)。</p><p><b>　　1.1.3分類</b></p><p><b>　?。?）反射膜</b></p><p>　　反射膜為在流延法制造時，在PET樹脂中摻雜HR高分子光學劑及增塑劑，以達到遮光和高反射

17、效果之膜片，由于在膜片的中間層具有一定的吸收光線，而降低了反射效果。故此，在表面增加一層HR介質(zhì)膜層，達到更佳的反射效果并具有抗紫外線黃變功能。反射膜的功能是增加光學表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。</p><p>　　反射膜常用來制造反光、折光和共振腔器件。</p><p><b>　?。?/p>

18、2)增透膜</b></p><p>　　增透膜又稱減反射膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。</p><p><b>　　(3)干涉濾光片</b></p><p>　　干涉濾光片是種類最多、結(jié)構(gòu)復雜的一類光學薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。最常見的干涉濾

19、光片是截止濾光片和帶通濾光片。</p><p><b>　?。?）分光膜</b></p><p>　　分光膜是根據(jù)一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。分光膜主要包括波長分光膜、光強分光膜和偏振分光膜等幾類。</p><p><b>　?。?）增光膜</b></p><p>　　增光膜是在透

20、明性非常好的PET表面，使用丙烯酸樹脂，精密成型一層分散一致的棱鏡結(jié)構(gòu)及背面光擴散層組合的光學薄膜，運用在液晶顯示的上層增光，使光線經(jīng)由增光之微結(jié)構(gòu)進行光的回收與聚光，產(chǎn)生增亮的效果，高亮度設(shè)計，帶擴散功能, 由于擴散層的基理,從而消除光耦合（Wet out）現(xiàn)象，光顯示更加均勻，柔和。</p><p><b>　　（6）擴散膜</b></p><p>　　擴散片是在

21、透明性非常好的PET表面，使用丙烯酸樹脂，精密涂布一層隨機分散的微米結(jié)構(gòu)的擴散粒子，在PET的相對面再精密涂布一層隨機分散的微米結(jié)構(gòu)的抗靜電粒子，運用在液晶顯示器中，使光線經(jīng)由擴散層產(chǎn)生多次折射及繞射，從而起到均光作用，讓光顯示更加均勻柔和。</p><p><b>　　1.1.4制備</b></p><p>　　通常光學薄膜的制備條件要求高而精，制備光學薄膜分干式制

22、備法和濕式制備法。干式制備法（含真空鍍膜：蒸發(fā)鍍，磁控濺鍍，離子鍍等）一般用于物理光學薄膜的制備，濕式制備法（含涂布法， 流延法，熱塑法等）一般用于幾何光學薄膜的制備。</p><p><b>　　1.1.5應(yīng)用</b></p><p>　　光學薄膜的應(yīng)用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機，電腦，電視的液晶顯示再到LED照明等等，它充斥著生活的方方面面，并使人們的生活更加豐富

23、多彩。</p><p><b>　　研究內(nèi)容</b></p><p>　　1.2光學薄膜的發(fā)展及分類、關(guān)鍵技術(shù)匯總</p><p>　　科學的發(fā)展正在改變傳統(tǒng)的光學薄膜的面貌，其應(yīng)用也由原來的純粹為光學儀器服務(wù)，逐漸滲透到通信、建筑、防偽、醫(yī)療和空間技術(shù)等領(lǐng)域。而新工藝、新材料、新技術(shù)的采用，或用來提高其性能,或與其他薄膜結(jié)合構(gòu)成新的器件，如與

24、電學膜結(jié)合起來的光電子薄膜，與高分子有機材料結(jié)合起來的光學有機薄膜。這些薄膜有著潛在而十分廣闊的應(yīng)用前景。新型光學薄膜如高強度激光膜、金剛石及類金剛石膜、軟X射線多層膜、太陽能選擇性吸收膜和光通信用光學膜的制備及其在器件方面的研究和應(yīng)用情況。下面就目前及未來幾年應(yīng)用廣泛、符合薄膜發(fā)展方向的設(shè)備及技術(shù)進行闡述： 一、 磁控濺射設(shè)備及工藝術(shù)  在光學薄膜領(lǐng)域，真空蒸發(fā)技術(shù)占據(jù)主導地位已經(jīng)超過50年，并

25、且一直在不斷發(fā)展。高性能的電子槍、離子輔助鍍膜、低壓反應(yīng)離子鍍膜、高精度的監(jiān)控技術(shù)、自動化的鍍膜過程等一系列的進展，使得蒸發(fā)技術(shù)達到了極高的水平，制備出了DWDM、GFF增益平坦濾光片等高性能的薄膜元器件，令人嘆為觀止。但是，隨著蒸發(fā)鍍膜機性能的不斷提高，結(jié)構(gòu)亦愈復雜，目前需要控制的工作參數(shù)已經(jīng)超過30個。并且隨著真空室狀態(tài)的變化，還需要適當修正一些參數(shù)，因此使過程十分復雜，成為各種故障</p><p>　　研究

26、內(nèi)容： 1） 設(shè)備的引進調(diào)試及工藝參數(shù)優(yōu)化 2） 產(chǎn)品的調(diào)研及開發(fā)應(yīng)用 3） 靶材的選擇及利用率的提高。 二、 真空紫外薄膜 真空紫外(VUV)是一種波長范圍為100~200nm的不可見光線, 由于真空紫外光波長短、熱效不強等獨特特性, 而廣泛應(yīng)用于工業(yè)(半導體芯片生產(chǎn)、在塑料上雕刻圖形)、醫(yī)學(片上生物工廠的制造)裝置、天文、

27、偵破等領(lǐng)域。特別是隨著高密度信息存儲、大規(guī)模集成電路以及慣性約束核聚變等近代科學技術(shù)的發(fā)展, 人們對存儲密度、儀器集成度的要求越來越高, 紫外波段高功率激光系統(tǒng)的發(fā)展愈來愈受到重視。而紫外薄膜正是支持紫外光路系統(tǒng)的重要元件,它們的光學性能影響制約著整個系統(tǒng)的效率。紫外薄膜還應(yīng)用于各種準分子激光及Nd:YAG激光的3倍頻(355nm)，4倍頻激光(266nm)等領(lǐng)域,它的激光損傷閾值是關(guān)鍵。近年來, 100~

28、200nm激光在許多以未來為導向的領(lǐng)域內(nèi)迅速發(fā)展, 尤其是同步輻射在世界領(lǐng)域所取得的突破性進展, 大大促進和帶動了真空紫外波段薄膜材料的研究。德國夫瑯和費研究所和意大利的M. Trovo等合作對VUV膜進行了系列研究, 得出了很多有意義的成果。  對于真空</p><p>　　然而光學薄膜的透過率、反射率和帶寬等性能與材料的性能特別是折射率密切相關(guān)，在優(yōu)

29、化光學薄膜設(shè)計時，為了達到最佳性能，往往需要特定折射率材料。 但自然界中可直接利用的材料是有限的，往往找不到優(yōu)化設(shè)計所需的最佳的特定折射率材料。 即使找到折射率接近的某種材料，也有可能因為該材料的其它性能（如消光系數(shù)、透明區(qū)等）不好而無法使用。 應(yīng)用等效折射率的方法，可以實現(xiàn)對某種特定折射率材料的等效替換，但這種方法會大大增加薄膜的層數(shù)，尤其是對于膜層較多的設(shè)計方案來說，會使膜系設(shè)計和優(yōu)化更加復雜，而且可能會增加制備工藝的難度［１-２］

30、。因此，如何通過簡單可靠的手段得到想要的特定折射率材料是光學薄膜研究的熱點之一。在實際應(yīng)用中，為了獲得現(xiàn)實不存在的某種特殊功能的材料，人們往往會想到用兩種或多種材料摻雜的方法來實現(xiàn)。 制備摻雜材料的方法也不盡相同，最早期的是把兩種材料粉末進行簡單的物理混合，這種方法雖然簡單，但制備出的摻雜材料的性能往往不佳。 以后，人們不斷嘗試用其它物理方法（如混合蒸鍍法、反應(yīng)沉積法等）進行摻雜材料的制備，混合蒸鍍法就是其中一種相對比較成熟的方法，包括

31、材料混合蒸鍍，分層蒸鍍和</p><p>　　雙源蒸鍍等。 這種方法多用于半導體摻雜材料的制備，探測器用特殊功能材料的制備等方面，并已得到較好的實驗效果。 該方法在光學鍍膜領(lǐng)域方面用的較少，主要用于梯度折射率材料的制備，但基本上停留在理論探索層面，很少有實際工程上的應(yīng)用［７-１７］。本文借鑒摻雜材料制備方法，利用離子束輔</p><p>　　助電子束雙源共蒸工藝制備了特定折射率材料激光防護

32、膜，利用膜厚均勻性檔板技術(shù)提高了薄膜的膜厚均勻性，薄膜性能測試結(jié)果與理論優(yōu)化結(jié)果相符。</p><p>　　2.　特定折射率材料的需求</p><p>　　在光學薄膜設(shè)計過程中，為了得到最佳的設(shè)計結(jié)果，往往需要用到某種特定折射率的材料。本文以太陽電池陣激光防護膜為例，對特定折射率材料的制備進行研究。 航天器太陽電池陣由硅太陽能電池板拼接而成，其工作波段為 ３８０ ～１ １００ ｎｍ，而對于

33、激光防護而言，在該波段防護任務(wù)目標為波長 ５３２ 和 １ ０６４ ｎｍ 的強激光輻射。激光防護膜的性能要既能保證電池陣有較高的太陽輻射能利用率，還要對兩處強激光有效截止。圖１ 中曲線 ａ 為選用抗激光損傷閾值高且制備工藝成熟的材料 ＺｒＯ２和 ＳＯ２進行的膜系設(shè)計方案。</p><p>　　從圖中可以看出，雖然在５３２ 和１ ０６４ ｎｍ 兩波長處的強激光得到有效截止，但由于兩波長處的截止帶較寬，阻礙了相當部

34、分太陽輻射能的進入，尤其是５３２ ｎｍ 附近的太陽輻射，因為太陽輻射能在５３２ ｎｍ 附近最強，這就會大大降低太陽輻射能的利用率，因此應(yīng)適當縮減截止帶寬以提高太陽輻射能的利用率。經(jīng)典薄膜理論中，多層介質(zhì)反射膜的反射帶寬計算公式為：</p><p>　　式中：nＨ和nＬ分別為兩種材料的折射率。 公式表明反射帶寬只與兩種材料折射率 n 有關(guān)，n 相差越大，反射帶寬越寬。 本方案中截止帶寬與之相仿，由于ＺｒＯ２ （n

35、＝２.０５）和ＳｉＯ２ （n ＝１.４６）兩種材料折射率相差較大，因此截止帶較寬。 為了縮減截止帶寬，應(yīng)減小兩種材料的折射率差值。 經(jīng)過理論分析和計算，如果選用一種 n ＝１.７５ 材料替代ＳｉＯ２與 ＺｒＯ２配合進行膜系設(shè)計結(jié)果較好。 圖１中曲線ｂ 為應(yīng)用這一特定折射率材料改進設(shè)計后的膜系透過率曲線，可以看到截止帶寬得到明顯縮減，大幅提高了太陽輻射能的利用率。</p><p>　　3.　特定折射率材料的制備&l

36、t;/p><p>　　3．1　以往摻雜材料制備</p><p>　　為了優(yōu)化薄膜性能，需要采用 n ＝１.７５ 的特定折射率材料，但現(xiàn)實中沒有合適的材料可以直接利用。 對此，本文借鑒摻雜材料的制備思想，找到人工制造特定折射率材料的方法，以滿足應(yīng)用要求。 以往摻雜材料的制備主要是采用單源混蒸法，即把要摻雜的兩種材料進行物理混合，制成均勻的塊體材料，用一個蒸發(fā)源蒸發(fā)制備出摻雜材料薄膜。 這種方法的

37、不足是有些材料不易直接混合成塊體材料；混合材料的蒸發(fā)特性可能不好；摻雜材料薄膜的成分比例與材質(zhì)材料塊體的成分比例不一定相同；不易實現(xiàn)任意配比的摻雜材料薄</p><p><b>　　膜等。</b></p><p><b>　　3．2　雙源共蒸法</b></p><p>　　在單源混蒸法的基礎(chǔ)上，本文開發(fā)了利用雙源共蒸法制備

38、特定折射率材料薄膜的方法。 圖２所示為雙源共蒸法示意圖。 其原理是兩臺電子槍同時工作，分別蒸發(fā) Ａ、Ｂ 兩種需要摻雜的膜料，通過控制兩種材料的蒸發(fā)速率實現(xiàn) Ａ、Ｂ 兩種材料的摻雜配比，并在鍍膜基片上生長出性能介于Ａ、Ｂ 兩種摻雜材料之間</p><p>　　的薄膜材料。 該方法的難點在于對兩種材料蒸發(fā)速率的精確控制。 為了實現(xiàn)此目的，在兩個晶控頭上分別安裝了相應(yīng)的擋板，防止兩種材料之間的相互影響，同時調(diào)整蒸發(fā)工藝

39、，盡量保證兩種材料蒸發(fā)速率的穩(wěn)定性，以確保實驗結(jié)果的可靠性。同樣選擇制備工藝比較成熟的 ＳｉＯ２與 ＺｒＯ２兩種材料進行摻雜，希望得到折射率 n ＝１.７５ 的且抗激光損傷閾值同樣較高的材料用于該激光防護膜的制備。 為了得到較高質(zhì)量的摻雜薄膜材料，還引入了離子輔助沉積手段，在蒸發(fā)膜料的同時，利用射頻離子源進行輔助沉積，它可以使兩種材料摻雜得更加均勻，膜層更加致密，從而提高成膜質(zhì)量。雙源共蒸法雖然對設(shè)備（如蒸發(fā)系統(tǒng)和膜厚控制系統(tǒng)等）要求較

40、高，但很容易通過控制兩種材料的蒸發(fā)速率實現(xiàn)控制兩種材料的摻雜比例，從而得到理想折射率的摻雜薄膜材料。 因此，借</p><p>　　助雙源共蒸法可以實現(xiàn)對該太陽電池陣激光防護膜性能的進一步優(yōu)化。</p><p><b>　　3．3　均勻性保證</b></p><p>　　雙源共蒸法的技術(shù)難點在于對工藝過程的精確控制。 除了要求對材料的蒸發(fā)速率和

41、膜厚進行精確控制外，還要保證蒸發(fā)材料膜厚具有較高的均勻性。 一般來說，任意兩種材料的蒸發(fā)特性是不同的，也就是說兩種材料膜厚的空間分布不同，這種情況會造成在工件盤上不同的空間位置處兩種材料的摻雜比例不一致，導致無法實現(xiàn)預(yù)期的設(shè)計結(jié)果。 因此，必須嚴格控制兩種材料蒸發(fā)的膜厚均勻性。</p><p>　　應(yīng)用數(shù)學分析和擬合的方法，借助平面行星夾具薄膜沉積無量綱模型理論，對平面行星夾具模型轉(zhuǎn)動過程以及基片運動軌跡進行擬合

42、分析，建立了材料蒸發(fā)特性和薄膜厚度均勻性的模型，分別針對 ＳｉＯ２與 ＺｒＯ２兩種不同材料合理設(shè)計出膜料蒸發(fā)的均勻性擋板，通過改進相應(yīng)的工藝輔助手段提高薄膜制備的均勻性，從而最終保證運用雙源共蒸法制備摻雜材料具有較好的膜厚均勻性。</p><p><b>　?。础〗Y(jié)果與討論</b></p><p>　　為了制備出介于 ＳｉＯ２與 ＺｒＯ２兩種材料之間的中間折射率材料，

43、精心設(shè)計了實驗方案。 首先保持ＺｒＯ２的蒸發(fā)速率為０.２ ｎｍ／ｓ 不變，逐漸增加ＳｉＯ２的蒸發(fā)速率，得到不同速率比條件下的摻雜材料。 表１ 為測得的各種速率比情況下制備的摻雜材料的折射率值。 從表中可以看出，隨著 ＳｉＯ２成分摻雜比例的增加，摻雜材料的折射率值有逐漸變小的趨勢。 當速率比低于 ０.８ 時，摻雜材料的折射率已經(jīng)低于１.７５ 的預(yù)期值。 根據(jù)這一規(guī)</p><p>　　律，在摻雜比例１ 和０.８ 之

44、間找到了合適的條件并最終得到了折射率近似等于１.７５ 的摻雜材料薄膜。</p><p>　　把上述實驗獲得的特定折射率材料應(yīng)用于太陽電池陣激光防護膜制備工藝中，制備出優(yōu)化后的激光防護膜樣品。 圖３ 為優(yōu)化制備方案后實測的防護膜樣品的光學透過率曲線。 從曲線中可以看出在５３２ ｎｍ 處的反射帶寬縮減２５ ｎｍ，太陽輻射能透過率提高 ６％以上，與優(yōu)化方案的設(shè)計結(jié)果基本相符，已達到了預(yù)期的激光防護膜性能優(yōu)化目的。圖４

45、所示為應(yīng)用均勻性擋板技術(shù)前后相關(guān)薄膜的膜厚均勻性分布曲線。 其中曲線１、２ 分別為</p><p>　　無均勻性擋板情況下 ＺｒＯ２單層膜與 ＳｉＯ２和 ＺｒＯ２摻雜薄膜的膜厚均勻性分布，可以看出其膜厚不均勻性接近 １０％。 曲線３、４ 分別為應(yīng)用均勻性擋板技術(shù)后 ＺｒＯ２薄膜與 ＳｉＯ２和 ＺｒＯ２摻雜薄膜的膜厚均勻性分布，ＺｒＯ２單層膜膜厚不均勻性小于１.９％，ＳｉＯ２和 ＺｒＯ２摻雜薄膜的膜厚不均勻性小于２

46、.１％。應(yīng)用１ ０６４ ｎｍ 激光以 １-ｏｎ-１ 的方式對該太陽電池陣激光防護膜進行了激光損傷實驗，測試結(jié)果顯示該防護膜激光損傷閾值為１.５ Ｊ／ｃｍ２。實驗結(jié)果表明，雖然應(yīng)用雙源共蒸方法實現(xiàn)了對該激光防護膜光譜透過性能優(yōu)化的目的，但反射帶寬以及整個光譜曲線的性能與理論設(shè)計結(jié)果還存在一定的差距，激光損傷閾值偏低。 這可能是由多層膜制備工藝控制的穩(wěn)定性，以及雙源共蒸法帶來的膜層界面情況變得復雜所致。 在后續(xù)試驗中，將通過改進工藝方法，提

47、高工藝控制穩(wěn)定性，減小膜層界面影響，進一步提高該太陽電池陣激光防護膜的綜合性能。</p><p><b>　?。怠〗Y(jié)　論</b></p><p>　　本文借鑒摻雜材料的制備思想，應(yīng)用離子輔助電子束雙源共蒸的工藝方法和膜厚均勻性擋板技術(shù)，在較大面積上成功制備出了折射率 n ＝１.７５ 的薄膜材料，并用于太陽電池陣激光防護膜的優(yōu)化設(shè)計和制備，得到了較好的性能優(yōu)化效果。實驗

48、結(jié)果說明，離子輔助電子束雙源共蒸法是一種可行的制備特定折射率薄膜材料的有效方法。由于時間有限，在摻雜材料性能方面的測試還不知，例如該方法是否對任意兩種材料的摻雜都適用，以及摻雜材料的穩(wěn)定性等還有待進一步的實驗和測試去驗證探究。</p><p><b>　　參考文獻：</b></p><p>　?。郏保荨←溈藙诘拢鈱W薄膜技術(shù)［Ｍ］．北京：國防工業(yè)出版社，１９７４．ＭＡ

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52、Ｓ Ｈ，ＨＥ Ｊ，et al．．ＳｉＯ２ ｆｉｌｍ ｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅｄ ｂｙ ｌｉｑｕｉｄ ｐｈａｓｅ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ａｎｄ ｉｔｓ ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ［Ｊ］．Chinese J．Luminescence，２０１２，３３（１１）：１２６４-１２６７．（ ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　?。郏担荨。模希危?Ｙ，ＷＡＮＧ Ｐ，ＮＩＥ Ｌ Ｆ，et al．．Ｓｏｌ-ｇ

53、ｅｌ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄ ｕｐ-ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｅｒ ３ ＋， Ｙｂ３ ＋ ｃｏｄｏｐｅｄ ＴｉＯ２ ｆｉｌｍｓ［Ｊ］．Chinese J．Luminescence，２０１２，３３（２）：１００６-１０１１．</p><p>　?。郏叮荨。祝粒危?Ｘ Ｊ，ＳＯＮＧ Ｈ，ＬＩ Ｄ Ｂ，et al．．Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ ＡｌＮ ｆｉｌｍｓ

54、 ｏｎ ｎｉｔｒｉｄｅｄ ｓａｐｐｈｉｒｅ ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ ｂｙ ｒｅａｃｔｉｖｅ ＤＣ ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ［Ｊ］．Chinese J．Luminescence，２０１２，３３（２）：２２７-２３２．</p><p>　?。郏罚荨。裕牛樱疲粒停桑茫龋粒牛?Ｔ，ＭＯＴＴＡ Ｎ，ＢＯＳＴＲＯＭ Ｔ，et al．．Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ｐｏｒｏｕｓ ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ ｔｈｉｎ ｆ

55、ｉｌｍｓ ｂｙ ｃｏ-ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ［Ｊ］．Appl．Surface Sci．，２００７，２５３：４８５３-４８５９．</p><p>　　［８］?。拢粒遥裕龋牛蹋牛停?Ｅ，ＡＬＢＥＲＴ Ｓ，ＶＩＧＲＥＵＸ Ｃ，et al．．Ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｎ ｔｈｅ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｔｅ-Ｇｅ ｔｈｉｃｋ ｆｉｌｍｓ ｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙ ｃｏ-ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａ

56、ｔｉｏｎ［Ｊ］．J．Non-Crystalline Solids，２０１０，３５６：２１７５-２１８０．</p><p>　?。郏梗荨。裕樱粒?Ｒ Ｙ， ＨＵＡ Ｍ Ｙ．Ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ， ｏｐｔｉｃａｌ， ａｎｄ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ｒｅａｃｔｉｖｅ ｅｌｅｃｔｒｏｎ-ｂｅａｍ-ｃｏｅｖａｐｏｒａｔｅｄ ＴｉＯ２-ＭｇＦ２ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ ｆｉｌｍｓ［Ｊ］．App

57、l．Opt．，１９９６，３５（２５）：５０７３-５０７９．</p><p>　　［１０］?。危桑耍蹋粒樱樱希?Ｇ Ａ，ＣＲＡＩＧＨＥＡＤ Ｈ Ｇ．Ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ｃｏｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ａｌｕｍｉｎｕｍ-ｓｉｌｉｃｏｎ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ ｆｉｌｍｓ［Ｊ］．Appl．</p><p>　　Opt．，１９８３，２２（８）：１２３７-１２４０．</p>

58、<p>　?。郏保保荨m大為，付秀華，耿似玉，等．紅外雙波段激光濾光膜的研制［Ｊ］．中國光學，２０１１，４（３）：２９３-２９８．ＧＯＮＧ Ｄ Ｗ，ＦＵ Ｘ Ｈ，ＧＥＮＧ Ｓ Ｙ，et al．．Ｄｅｓｉｇｎ ａｎｄ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ ｏｆ ｉｎｆｒａｒｅｄ ｄｏｕｂｌｅ ｗａｖｅｂａｎｄ ｌａｓｅｒ ｆｉｌｔｅｒ ｆｉｌｍｓ ［Ｊ］．Chi-</p><p>　　nese Optics，２０１１

59、，４（３）：２９３-２９８．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　　［１２］　賈潔，鄭華，耿濤，等．ＰＨＥＭＴ 歐姆接觸的雙源共蒸技術(shù)［Ｊ］．電子與封裝，２００７，７（１１）：３５-３８．ＪＩＡ Ｊ，ＺＨＥＮＧ Ｈ，ＧＥＮＧ Ｔ，et al．．Ｔｈｅ ｃｏ-ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ ｉｎ ＧａＡｓ ＰＨＥＭＴ ［Ｊ］．ElectronicsPackagi

60、ng，２００７，７（１１）：３５-３８．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　?。郏保常荨∩蜃圆?，王英劍，范正修，等．線性共蒸法制備漸變折射率薄膜的光學特性分析［Ｊ］．中國激光，２００５，３２（６）：８２９-８３４．ＳＨＥＮ Ｚ Ｃ，ＷＡＮＧ Ｙ Ｊ，ＦＡＮ ＺＨ Ｘ，et al．．Ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ ｏｐｔｉｃａｌ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ｇｒａｄｉｅｎｔ ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ ｉｎｄｅ

61、ｘ ｃｏａｔｉｎｇｓ ｐｒｅ -ｐａｒｅｄ ｂｙ ｌｉｎｅａｒ ｃｏ-ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ［Ｊ］．Chinese J．Lasers，２００５，３２（６）：８２９-８３４．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　?。郏保矗荨埩⒊?，高勁松．長春光機所深紫外光學薄膜技術(shù)研究進展［Ｊ］．光學 精密工程，２０１２，２０（１１）：２３９５-２４０１．ＺＨＡＮＧ Ｌ ＣＨ，ＧＡＯ Ｊ Ｓ．Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ ｏｆ

62、 ＤＵＶ ｃｏａｉｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ｉｎ ＣＩＯＭＰ ［Ｊ］．Opt．Precision Eng．，２０１２，２０（１１）：２３９５-２４０１．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　?。郏保担荨≮w妙，周代兵，譚滿清，等．雙源電子束蒸發(fā)制備 Ｓｉ／ＳｉＯ２光學薄膜的工藝［Ｊ］．半導體學報，２００６，２７（９）：１５８６-１５８９．ＺＨＡＯ Ｍ，ＺＨＯＵ Ｄ Ｂ，ＴＡＮ Ｍ Ｑ，et al．．Ｐｒ

63、ｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｓｉ／ＳｉＯ２ ｏｐｔｉｃａｌ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｂｙ ｄｏｕｂｌｅ ｓｏｕｒｃｅ ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ ｅｖａｐｏｒａ-ｔｉｏｎ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ［Ｊ］．Chinese J．Semiconductors，２００６，２７（９）：１５８６-１５８９．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　　［１６］　寧曉陽，杭凌俠，郭峰，等．ＳｉＯ２／ＴｉＯ２變折射率光學薄膜制造技術(shù)研究［

64、Ｊ］．表面技術(shù)，２０１１，４０（６）：５８-６１．ＮＩＮ Ｘ Ｙ，ＨＡＮＧ Ｌ Ｘ，ＧＵＯ Ｆ，et al．．Ｒｅｓｅａｒｃｈ ｔｈｅ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ ＳｉＯ２／ＴｉＯ２ ｎｏｎｌｉｎｅａｒ ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ-ｉｎｄｅｘ ｏｐｔｉｃａｌ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍｓ［Ｊ］．Surface Technology，２０１１，４０（６）：５８-６１．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ）</p><p>　?。郏保罚荨⌒l(wèi)耀偉

65、，劉志超，陳松林．ＴｉＯ２ ／Ａｌ２Ｏ３薄膜的原子層沉積和光學性能分析［Ｊ］．中國光學，２０１１，４（２）：１８８-１９５．ＷＥＩ Ｙ Ｗ，ＬＩＵ ＺＨ ＣＨ，ＣＨＥＮ Ｓ Ｌ．Ｏｐｔｉｃａｌ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ ｏｆ ＴｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍｓ ａｎｄ ｔｈｅｉｒ ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｓ［Ｊ］．Chinese Optics，２０１１，４（２）：１８８-１９５．（ｉｎ Ｃｈｉｎｅｓｅ

66、）</p><p><b>　　致謝</b></p><p>　　我的畢業(yè)論文是在陳書劍老師的精心指導和大力支持下完成的，他淵博的知識開闊的視野給了我深深的啟迪，論文凝聚著他的血汗，他以嚴謹?shù)闹螌W態(tài)度和敬業(yè)精神深深的感染了我對我的工作學習產(chǎn)生了深淵的影響，在此我向他表示衷心的謝意這三年來感謝武漢職業(yè)技術(shù)學院電子信息工程系的老師對我專業(yè)思維及專業(yè)技能的培養(yǎng)，他們在學業(yè)上

67、的心細指導為我工作和繼續(xù)學習打下了良好的基礎(chǔ)，在這里我要像諸位老師深深的鞠上一躬！特別是我的畢業(yè)設(shè)計陳老師，雖然他不是我的輔導員，但是在這三年來，在思想以及生活上給予我鼓舞與關(guān)懷讓我走出了很多失落的時候，“明師之恩，誠為過于天地，重于父母”，對陳老師的感激之情我無法用語言來表達，在此向吳老師致以最崇高的敬意和最真誠的謝意！</p><p>　　感謝這三年來我的朋友以及光電12302班的四十多位同學對我的學習，生活