三種水生植物對(duì)銅尾礦滲出液修復(fù)潛力研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、本研究栽培基質(zhì)為德興Cu尾礦滲出液,試驗(yàn)材料為荷花(NelumbonuciferaGaertn.)、溪蓀(IrissanguineaDonnexHornem.)和銅錢(qián)草(HydrocotylesibthorpioidesLam.Encycl.),采用盆栽的方法,研究在Cu尾礦滲出液(CuL)脅迫下,對(duì)植物的生長(zhǎng)指標(biāo)、耐性指數(shù)、金屬離子富集及轉(zhuǎn)運(yùn)系數(shù)的影響和對(duì)CuL修復(fù)及其對(duì)水質(zhì)的影響,目的是為含有重金屬Cu尾礦污染水體的修復(fù)問(wèn)題提供一定

2、的理論依據(jù)。主要研究結(jié)果如下:
  (1)采用盆栽方法,研究了Cu尾礦滲出液(CuL)脅迫對(duì)荷花和溪蓀生長(zhǎng)指標(biāo)、金屬離子積累和運(yùn)轉(zhuǎn)的影響。試驗(yàn)結(jié)果表明,荷花受到CuL脅迫時(shí),葉柄長(zhǎng)和葉直徑在100%CuL處理分別比對(duì)照下降了13.69%和36.26%。溪蓀株高在50%CuL處理比對(duì)照下降了22.77%。純尾礦處理下荷花地下部干質(zhì)量與對(duì)照相比上升1.59倍,耐性指數(shù)上升1.17倍,并且地下部Cu富集含量最高,為90.92μg/g。溪

3、蓀地上部Cu含量最高為75%CuL處理時(shí),Cu含量達(dá)到45μg/g。荷花和溪蓀75%CuL處理時(shí)遷移率分別為對(duì)照的1.32倍、3.34倍。說(shuō)明荷花的適應(yīng)性相對(duì)溪蓀較強(qiáng),更有利于對(duì)Cu尾礦污染水體的修復(fù)。
  (2)荷花和溪蓀單一栽植對(duì)CuL水質(zhì)指標(biāo)影響的研究結(jié)果表明,荷花在純尾礦滲出液處理時(shí)pH值與對(duì)照相比下降了25%。荷花和溪蓀在純尾礦滲出液處理下EC值分別是對(duì)照的15.9倍和4.08倍,DO分別為對(duì)照的1.05倍和1.01倍。

4、100%CuL處理時(shí),荷花ORP與對(duì)照相比差異顯著(P<0.05=,為對(duì)照的1.28倍,BOD與對(duì)照相比升高1.05倍。荷花和溪蓀在100%CuL處理時(shí),溶液中磷酸鹽分別比對(duì)照下降94%和89%。荷花在純尾礦處理時(shí)氨氮與對(duì)照相比上升128倍,75%CuL處理時(shí)溪蓀栽植溶液中氨氮含量為對(duì)照的4.55倍。荷花75%CuL處理下溶液中Cu含量為對(duì)照的1.09倍。本試驗(yàn)說(shuō)明荷花相比溪蓀更有利于調(diào)節(jié)污染水體中的各項(xiàng)指標(biāo),有利于修復(fù)CuL。

5、  (3)荷花、溪蓀和銅錢(qián)草復(fù)合栽培于純CuL中,各生長(zhǎng)指標(biāo)均受到影響。荷花復(fù)合栽培下葉柄長(zhǎng)、葉直徑和根數(shù)這三項(xiàng)生長(zhǎng)指標(biāo)與單獨(dú)種植相比均呈下降趨勢(shì);葉數(shù)、莖長(zhǎng)和根長(zhǎng)在荷花和溪蓀復(fù)合栽培下均高于單獨(dú)種植;除H+XCuL處理地下部干質(zhì)量以外,地上部干質(zhì)量及耐性指數(shù)與對(duì)照相比均為下降趨勢(shì)。溪蓀復(fù)合栽培下各處理葉數(shù)與單獨(dú)種植相比均呈下降趨勢(shì);地上部分干質(zhì)量與對(duì)照相比均呈下降趨勢(shì)。銅錢(qián)草復(fù)合栽培下葉直徑、根數(shù)和根長(zhǎng)及地上部干質(zhì)量與單獨(dú)種植相比均呈

6、下降趨勢(shì);銅錢(qián)草地上部和地下部干質(zhì)量在H+TCuL、X+TCuL以及H+X+TCuL處理時(shí)差異顯著(P<0.05)。結(jié)果說(shuō)明荷花更適合單一栽植;溪蓀與銅錢(qián)草混合栽培會(huì)促進(jìn)雙方生長(zhǎng)指標(biāo)、耐性指數(shù)和生物量的增加;銅錢(qián)草可單一或復(fù)合栽培。
  (4)荷花、溪蓀和銅錢(qián)草復(fù)合栽培對(duì)CuL水質(zhì)指標(biāo)影響的試驗(yàn)結(jié)果表明,復(fù)合栽培時(shí)各處理的pH均呈酸性,HCuL、XCuL、H+XCuL和H+X+TCuL處理時(shí)pH值均高于對(duì)照(未種植物的100%Cu

7、L,即空白組)。復(fù)合栽培時(shí)各處理電導(dǎo)率(EC)均低于對(duì)照。TCuL處理時(shí)氧化還原電位(ORP)比對(duì)照上升1.77倍,HCuL處理時(shí)比對(duì)照下降34.21%。HCuL處理時(shí)溶解氧(DO)與對(duì)照相比下降45.11%,TCuL處理下比對(duì)照上升1.06倍。TCuL、X+TCuL處理時(shí)生物需氧量(BOD)分別為對(duì)照的1.06倍、1.04倍。復(fù)合栽培下各處理磷酸鹽與對(duì)照相比差異均不顯著(P>0.05),而各處理氨氮含量均低于對(duì)照。H+XCuL、H+T

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