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文檔簡介
1、本論文主要研究非線性鐵電晶體內(nèi)部界面上產(chǎn)生的各類非線性光學(xué)現(xiàn)象及產(chǎn)生機制。第一章介紹了非線性光學(xué)概況,相位匹配機制,界面非線性現(xiàn)象研究概況等,第二章介紹了課題組之前研究工作中在晶體界面上所產(chǎn)生的各類非線性現(xiàn)象,第三、第四和第五章深入介紹本論文關(guān)于晶體界面產(chǎn)生的新型非線性現(xiàn)象的研究工作。
研究表明晶體的非線性界面由于非線性系數(shù)的階躍,其形成的非線性效應(yīng)與單純的體介質(zhì)內(nèi)形成的非線性效應(yīng)有很大不同,因此晶體的非線性界面具備潛在的應(yīng)用
2、價值。近年來圍繞鐵電晶體界面上產(chǎn)生的各類非線性現(xiàn)象展開的新型非線性位相匹配類型不斷被發(fā)現(xiàn)。在體介質(zhì)晶體界面上,我們在之前的課題研究實驗中觀測到了在類反常色散情況下,由入射基頻光與其反射光在晶體界面激發(fā)的非共線二次諧波及非線性切倫科夫輻射。
本論文首先通過設(shè)計三個獨立實驗,利用控制變量法研究了在入射光與反射光在晶體界面內(nèi)表面全反射激發(fā)產(chǎn)生的非共線二次諧波的角度、溫度和波長帶寬,推導(dǎo)了在晶體內(nèi)表面產(chǎn)生的非共線二次諧波的非共線耦合波
3、方程。利用耦合波模型對非共線二次諧波進行了模擬,從而給出界面上增強的非共線二次諧波耦合波理論解釋,為實驗提供了參考依據(jù)。利用測量的帶寬來估算形成非共線二次諧波光的基頻光與二次諧波光的相互作用距離。
由于晶體界面非線性系數(shù)的階躍,非線性晶體的界面可以藉此產(chǎn)生更加豐富的非線性效應(yīng)。多光束共同作用入射晶體界面可以產(chǎn)生更豐富的非線性光學(xué)現(xiàn)象。在正常色散情況下,通過利用波長為1300nm和800nm的共線同步雙光束入射晶體界面,我們觀察
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