用軟刻蝕技術(shù)制造聚合物微結(jié)構(gòu).pdf

1、"軟刻蝕"技術(shù)(Soft Lithography)是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種新型微制造技術(shù),它是借助中介圖形轉(zhuǎn)移元件——彈性印章——把用昂貴設(shè)備生成的微圖形以簡(jiǎn)便而又精確的方法復(fù)制出來(lái)的一類非光刻微制造術(shù).與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比,軟刻蝕具有顯著的優(yōu)點(diǎn):操作過(guò)程簡(jiǎn)單、成本低廉;不需要復(fù)雜昂貴的大型光刻設(shè)備,可以在普通實(shí)驗(yàn)室很容易地展開(kāi);彈性印章一次模塑成型,可多次重復(fù)使用;可大面積、成批量制作微圖形;不受光學(xué)效應(yīng)的影響,可以突破光刻術(shù)的100n

2、m極限;可以方便地在平面或曲面表面制作微細(xì)結(jié)構(gòu);既可以制造二維圖形,也可以制造三維的微結(jié)構(gòu);可以對(duì)圖形表面的化學(xué)性質(zhì)加以改性控制,等等.過(guò)程方便快捷,靈活多變,結(jié)合選擇性化學(xué)刻蝕和誘導(dǎo)成核等手段,可以方便地制備出各種微米、亞微米、納米級(jí)的微細(xì)結(jié)構(gòu),并可進(jìn)一步制成各種功能性器件,具有極好的潛在應(yīng)用前景.該論文就是把"軟刻蝕"這一新型微制造技術(shù)結(jié)合到高分子科研中來(lái),以制備各種聚合物微結(jié)構(gòu).我們首先對(duì)用于制作彈性印章的硅橡膠體系的組分配比進(jìn)行