常壓脈沖調(diào)制射頻介質(zhì)阻擋輝光技術(shù)研究.pdf

1、近年來，常壓輝光放電由于其可行性和低廉成本，并且在沒有真空系統(tǒng)的常壓下進行試驗，從而在表面改性、材料合成和生物殺毒等領(lǐng)域內(nèi)具有廣泛的潛在應(yīng)用，引起了人們的極大關(guān)注。對常壓射頻輝光放電中的射頻頻率施加調(diào)制脈沖以后，可以控制放電的產(chǎn)生和維持時間，控制等離子體中熱積累效應(yīng)，除了可以降低常壓射頻輝光放電中等離子體溫度；同時也可以改善由于熱效應(yīng)導(dǎo)致的放電不穩(wěn)定性。本文將要對常壓脈沖調(diào)制射頻介質(zhì)阻擋輝光放電技術(shù)進行研究。內(nèi)容具體如下：
　　

2、 1．實驗中采用一個重復(fù)頻率為100KHz的脈沖對13.56MHz射頻功率進行調(diào)制。研究發(fā)現(xiàn)，除了在放電起輝和熄滅過程之外，放電和沒有脈沖調(diào)制的放電具有相類似的特征。通過時間分辨成像和光譜對放電起輝和熄滅階段的光學(xué)特征進行研究。結(jié)合放電電流電壓特性，通過等離子體圖像強度，放電空間分布和特定發(fā)射譜線強度的時間演變研究了放電在起輝和熄滅階段的動力學(xué)過程。
　　 2．實驗中采用一個重復(fù)頻率為500KHz、占空比分別為6％和8％的脈沖對