稀土摻雜氟化物上轉(zhuǎn)換薄膜的制備及其性能研究.pdf_第1頁
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1、分類號:Q 4 8 1 .生!U D 0 : 5 1 j .3密 級: 公玨編 號:稀土摻雜氟化物上轉(zhuǎn)換薄膜的制備及其性能研究S T U D Y O NT H E P E R F O R M E N C EO F R A R E E A R T HD O P E DF L U O R I D EU P C O N V E R S I O NT H I N F I L M學(xué)位援于單位及代碼: 長盔理蘭去生 f l Q l 豎)學(xué)科專業(yè)名稱

2、及代碼: 撾抖物理與業(yè)笠 ! Q 8 Q 鲴1 2研究萬同:r 止蟲功能晶住撾攔 申請學(xué)位級別: 強(qiáng) ±指導(dǎo)教帥: 減壹面 研 究 生: 要盎旭論文起止時間:如蛆J 蛙= 2 蚰衛(wèi)J 2摘 要稀士摻雜的上轉(zhuǎn)換材料在激光、存儲和太陽能電池等睹多領(lǐng)域有著很廣泛的應(yīng)用。稀土摻雜的氟化物上轉(zhuǎn)換材料因其良好的光學(xué)性能,而成為人們研究的熱點:稀士摻雜的氟化物上轉(zhuǎn)換薄膜可克服粉末材料和體塊材料的不足.從而大大提高稀土摻雜的氟化物上轉(zhuǎn)換材料的

3、實用性。本文針對這一問題做了以下一些工作:( 1 ) 采用高溫固相反應(yīng)法制各了N a Y F 4 :Y b 卜.T m ”塊狀鍍膜材料,在9 8 0 n m激光器照射下.可發(fā)出明亮的藍(lán)色上轉(zhuǎn)換熒光。e 2 ) 采用傳統(tǒng)的電阻加熱式真空熱蒸麓沉積技術(shù),用自制鍍膜材料在氧化鋁基板上沉積出一層厚度約為1 u m 的N a Y F 4 :Y b ’,T m 扣薄膜,在9 8 0 r i m 激光器照射下.可發(fā)出肉眼可見的明亮的藍(lán)色上轉(zhuǎn)換熒光.用

4、熒光分光光度計記錄了其上轉(zhuǎn)換光譜,并用x 射線衍射僅和掃描電子顯微鏡表征了其結(jié)構(gòu)和形貌。( 3 ) 比較了分別用自制鍍膜材料和報同配比未經(jīng)燒結(jié)的粉末混合料制備的N a Y F 。:Y b ’,T m ’鍍膜在相同功率9 8 0 n m 激技下的上轉(zhuǎn)換光譜。( 4 ) 研寬了退火過程對N a Y F ^ :Y b 3 一,T m ’薄膜上轉(zhuǎn)換發(fā)光性能,結(jié)構(gòu)及形貌的影響;( 5 ) 制備了不同N a Y F 4 :Y b ”.T m 3 *

5、 和Y i 0 2 的復(fù)臺薄膜,研究了縣有近紅外反射和紫外吸收性能的T i 0 2 對N a Y F 。:Y b ”.T m 7 鍍膜匕轉(zhuǎn)換發(fā)光性能.結(jié)構(gòu)及形貌的影響。( 6 ) 采用與制備N a Y F | :Y b 3 f ,T m ’薄膜相同的工藝制各出了N a Y F 4 :Y b ’.E 一+ 薄膜.測試了其結(jié)構(gòu)、形貌及上轉(zhuǎn)換發(fā)射光譜,并研究了退火過程對N a Y F 4 :Y b ”.E ,薄膜機(jī)構(gòu)和上轉(zhuǎn)換發(fā)光性能的影響:關(guān)

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