UV-LED曝光系統(tǒng)及曝光工藝研究.pdf

1、光刻一直以來都是半導(dǎo)體制造的咽喉工藝。光刻設(shè)備的研制也是全世界科研的重點，傳統(tǒng)的近紫外波長的光刻設(shè)備使用汞燈作為光源，維護成本高、設(shè)備機構(gòu)復(fù)雜、操作不方便。近幾年來得益于半導(dǎo)體照明材料和技術(shù)的快速發(fā)展，從而研制一款結(jié)構(gòu)小巧、操作便捷、維護低成本的紫外LED(UV-LED)光刻機，具備了迫切性和可行性。
　　論文分析了光刻設(shè)備的發(fā)展過程和光刻工藝流程，并對幾種光刻光源進行了討論。研究和討論了傳統(tǒng)汞燈光刻設(shè)備的缺點和局限。對使用半導(dǎo)體

2、照明作為光刻光源的方案進行了研究。并對新型的UV-LED曝光光源穩(wěn)定和控制進行了實驗研究，以及UV-LED光刻設(shè)備獲得細微圖形的工藝方法做了研究和討論。主要內(nèi)容有:
　　1、研究了LED發(fā)光原理，基于UV-LED的發(fā)光特性和電學(xué)特性進行了分析。通過對UV-LED溫度和電流控制從而得出穩(wěn)定的波長和強度。研究光源在不同的功率工作情況下選擇具體的散熱方案和方法，對UV-LED恒流驅(qū)動設(shè)計進行了討論。獲得了UV-LED曝光光源工作穩(wěn)定的控

3、制方法。
　　2、研究了曝光光路和顯微對準(zhǔn)光路，提出模擬方案，并進行了實驗。通過實驗得到了均勻度95％以上的曝光光路;以及分辨率達到2μm的對準(zhǔn)顯微光路。
　　3、對集成后的整機進行了研究，通過UV-LED光刻機進行光刻實驗，對UV-LED光刻機的整套曝光工藝進行了實驗研究，探索獲得了UV-LED光刻機的曝光工藝參數(shù)。
　　UV-LED作為光源的光刻機的可行性和有效性得到了實踐，展示了UV-LED在可見紫外和近紫外波長