大平面機(jī)械拋光運(yùn)動(dòng)特性及拋光均勻性研究.pdf

1、大平面機(jī)械拋光廣泛應(yīng)用于墻地磚、石材及玻璃制品的精加工中。由于拋光質(zhì)量的影響因素復(fù)雜，長期以來拋光工藝的制定以及拋光機(jī)結(jié)構(gòu)優(yōu)化都是建立在試驗(yàn)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)基礎(chǔ)上，拋光過程缺乏系統(tǒng)的理論依據(jù)為指導(dǎo)，導(dǎo)致大平面機(jī)械拋光的效率低、返拋率高。為了更好的了解拋光質(zhì)量的影響因素、提高拋光效率，本文以墻地磚拋光機(jī)為研究對(duì)象，分析了大平面機(jī)械拋光的運(yùn)動(dòng)特性，建立拋光均勻性分析的計(jì)算機(jī)仿真模型，并結(jié)合仿真與試驗(yàn)研究了拋光工藝參數(shù)對(duì)拋光質(zhì)量的影響規(guī)律。因此，本

2、文能夠?yàn)橹笇?dǎo)墻地磚拋光加工提供有價(jià)值的科學(xué)依據(jù)，對(duì)于提高拋光效率具有一定意義。 本文首先在大平面機(jī)械拋光運(yùn)動(dòng)過程分析的基礎(chǔ)上，建立拋光的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型。得出單顆磨粒的運(yùn)動(dòng)軌跡特性和速度變化規(guī)律，以及單拋光盤的運(yùn)動(dòng)軌跡特性和速度分布變化規(guī)律，從運(yùn)動(dòng)學(xué)角度探討了拋光量分布不均的原因。結(jié)合多個(gè)拋光盤拋光的特點(diǎn)，研究了多個(gè)拋光盤拋光的運(yùn)動(dòng)特性和組合規(guī)律，得出了實(shí)現(xiàn)均勻拋光的參數(shù)匹配關(guān)系。 以Preston假設(shè)為基礎(chǔ)，引入拋光均勻性的

3、數(shù)學(xué)評(píng)價(jià)參數(shù)，建立了大平面機(jī)械拋光均勻性分析的計(jì)算機(jī)仿真模型，并確定了仿真參數(shù)，對(duì)單拋光盤和雙拋光盤組合拋光兩種情況下拋光量的分布進(jìn)行了仿真。試驗(yàn)與仿真結(jié)果表明該模型能夠表征出拋光平面拋光量的分布情況與拋光的均勻程度。 以墻地磚拋光為研究對(duì)象，得出了拋光質(zhì)量的關(guān)鍵影響因素，結(jié)合拋光均勻性仿真模型與試驗(yàn)分析，研究了拋光壓強(qiáng)、拋光盤轉(zhuǎn)速、墻地磚輸送速度、橫梁擺動(dòng)周期、拋光盤間距以及橫梁擺動(dòng)速度曲線等拋光工藝參數(shù)對(duì)拋光質(zhì)量的影響規(guī)律，