納米級超精密拋光機控制系統(tǒng)研制.pdf

1、該文主要從拋光機理出發(fā),闡明了各拋光參數(shù)與拋光效率及精度的關(guān)系,提出了切實可行的控制方法,并實現(xiàn)了產(chǎn)品化.拋光機是最精密的工作母機,周圍諸多因素直接或間接的影響著拋光效果,該文主要就拋光盤運行、拋光液溫度、拋光盤平面修整三個方面的硬件關(guān)鍵技術(shù)及控制技術(shù)作了詳細的描述.拋光盤運行主要采用了基于規(guī)則的控制方法,實現(xiàn)了緩速上升-穩(wěn)定運行-緩速下降-精確定位的控制模式以及小于5﹪的轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度,小于0.4°的定位精度,2-120rpm的轉(zhuǎn)速范圍.

2、拋光液溫度控制主要采用了基于知識的具有自學(xué)習(xí)功能的智能控制方法,達到了小于±0.3℃的拋光液溫度穩(wěn)定度.從電火花加工機理出發(fā),描述了拋光盤平面度修整的方法,并研制了一種適用于電火花修整的專用脈沖電源,實現(xiàn)了精微修整過程中電極的微小模糊進給.考慮了拋光整機的電磁兼容性、可靠性設(shè)計.最后以水晶加工為例,詳細說明了整個拋光過程,從talystep測量數(shù)據(jù)來分析,采用自行研制的拋光機,完全能獲得水晶的超平滑表面,最大表面粗糙度值介于1~2nm之