介孔二氧化硅及其復合材料的制備和性能研究.pdf

1、介孔二氧化硅(SiO2)材料具有很高的熱穩(wěn)定性和水熱穩(wěn)定性,較高的比表面積,同時還具有在納米范圍內規(guī)則排列且可調的孔道結構,這些優(yōu)勢使其在光、電、磁等領域有著廣闊的應用前景。制備納米介孔SiO2/聚合物復合材料是納米介孔SiO2材料的一個重要應用方面,納米粒子的表面效應、體積效應、量子尺寸效應及宏觀量子隧道效應及其具有的許多優(yōu)異特性,使得納米粒子填充在聚合物中不僅能提高材料的各方面性能,還能賦予聚合物新的功能。 本論文主要以納米

2、介孔SiO2材料的合成、性能分析和應用為研究對象,采用復合模板法制備了一系列納米介孔SiO2材料。在此基礎上制備了納米介孔SiO2/PMMA復合材料和復合光學薄膜,并對其結構和性能進行了研究。 首先,在溫和堿性條件下,使用混合有機模板劑,以正硅酸四乙酯(TEOS)為硅源,制備得到粒徑在60～500 nm可調,外觀形貌良好、比表面積大、同時具有有序孔道結構的介孔SiO2微球。研究表明,適當比例的復合模板劑和適當?shù)姆磻獪囟?、攪拌速?/p>

3、及pH值有利于形成球形的、粒徑均一、介孔孔道規(guī)則的介孔SiO2材料。 其次,對SiO2進行表面烷基化處理后,通過無皂乳液聚合制得納米介孔SiO2/PMMA復合材料。討論了引發(fā)劑用量的影響,并使用FTIR、XRD、TEM、SEM、TG、DSC、BET等儀器對復合材料的性能進行了研究。研究發(fā)現(xiàn),復合材料仍保持著良好的形貌和較為有序的孔道結構、較高的比表面積,分散性也得到較大改善。 再次,采用勻膠鍍膜法制備了納米介孔SiO2/

4、PMMA復合光學薄膜,并著重研究其光學、熱學性能。結果表明,納米介孔SiO2含量較低時(2～6％),隨著SiO2含量的增大,復合薄膜在低波長范圍內的透射率有所提高。但納米介孔SiO2含量大于6％時,由于納米介孔SiO2對280～800 nm波長范圍的光具有較強的反射性能,其加入量越大則這種反射性能越強,并且納米SiO2添加量過多時也會造成在復合體系中的少量團聚現(xiàn)象,結果導致納米介孔SiO2/PMMA復合薄膜的透光率明顯降低。所以納米介孔