光刻在半導(dǎo)體集成電路制造工藝中，無論是從占用的資金、技術(shù)還是人員來看，都有舉足輕重的地位。光刻工藝的發(fā)展歷史就是集成電路的發(fā)展歷史，光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀就是集成電路的發(fā)展現(xiàn)狀，不論是最低端的，還是今天最為先進的集成電路制造，光刻技術(shù)水平始終決定著集...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 玩家 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 10人氣
光刻技術(shù)是集成電路小型化以及研究微觀量子世界的重要基礎(chǔ)之一，它已成為當(dāng)今科學(xué)技術(shù)制備微電子器件、光電子器件的關(guān)鍵技術(shù)?，F(xiàn)有的亞波長光刻技術(shù)存在著諸如設(shè)備昂貴、工藝復(fù)雜、產(chǎn)出低等限制。本論文以亞波長分辨光刻介質(zhì)及光刻方法為研究主線。主要開展了365NMLE...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 釋懷過去 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 20人氣
光刻工藝中，光刻物鏡的焦深往往只有幾微米到幾十微米左右，尋找焦面并非一件輕而易舉的事，若焦面未找準(zhǔn)，會導(dǎo)致光刻圖形模糊不清，嚴(yán)重影響曝光質(zhì)量。因而，研究合理的調(diào)焦技術(shù)對于光刻工藝是十分重要的另外，隨著光刻圖形特征尺寸越來越小，掩模板的制作難度越來...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 吟嘯 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 13人氣
電科0901鄭宏亮200903440129,光刻膠,簡介,光刻膠又稱光致抗蝕劑PHOTORESIST,是利用光化學(xué)反應(yīng)進行圖形轉(zhuǎn)移的媒體,它是一類品種繁多、性能各異,應(yīng)用極為廣泛的精細(xì)化學(xué)品。電子工業(yè)的發(fā)展與光刻膠的發(fā)展是密切相關(guān)的。光刻膠的發(fā)展為電子工業(yè)提供了產(chǎn)業(yè)化的基礎(chǔ),而電...
下載價格：4 賞幣 / 發(fā)布人： 畢業(yè)設(shè)計 / 發(fā)布時間：2024-01-07 / 13人氣
集成電路制造工藝1光刻工藝光刻工藝陳瓊（陜西國防工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院應(yīng)用電子技術(shù)電子3084班，西安市710300）摘要摘要光刻工藝是半導(dǎo)體制造中最為重要的工藝步驟之一。主要作用是將掩膜板上的圖形復(fù)制到硅片上，為下一步進行刻蝕或者離子注入工序做好準(zhǔn)備。光刻的成本...
下載價格：6 賞幣 / 發(fā)布人： 畢業(yè)設(shè)計 / 發(fā)布時間：2024-03-08 / 24人氣
集成電路產(chǎn)業(yè)一直向著集成度越來越高關(guān)鍵尺寸越來越小的方向發(fā)展。將光刻部分的線寬做到更小的關(guān)鍵就是分辨率R值的降低這會導(dǎo)致聚焦深度DOF減小隨著DOF越來越小就對現(xiàn)在的光刻工藝制程中焦距的穩(wěn)定性提出越來越高的要求所以對光刻機臺焦距的監(jiān)測精度和穩(wěn)定度要求越來...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： carpediem / 發(fā)布時間：2024-03-11 / 34人氣
該論文基于光的干涉和衍射及光學(xué)全息照相理論綜合評述了光學(xué)光刻的基本原理、主要類型、發(fā)展趨勢及開展激光無掩模干涉光刻和全息光刻研究的目的和意義深入研究了無掩模激光干涉光刻技術(shù)用于高分辨、大視場、深亞微米和納米圖形生成的基本原理、理論、主要類型和實現(xiàn)...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 我少了溫度 / 發(fā)布時間：2024-03-13 / 13人氣
極紫外光刻是實現(xiàn)45NM及其以下節(jié)點的主要候選技術(shù)之一，隨著圖形特征尺寸逐漸減小，曝光過程中掩模熱變形對光刻性能的影響越來越嚴(yán)重。因此，全面分析曝光過程中掩模熱變形并研究其對光刻性能的影響是非常有意義的。本文針對產(chǎn)量為81片小時的極紫外光刻系統(tǒng)，使用有...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 溫情 / 發(fā)布時間：2024-03-13 / 11人氣
UVLIGA技術(shù)用紫外光源代替同步輻射X光，從而以較為低廉的價格獲得較大深寬比的微結(jié)構(gòu)，是一項極具發(fā)展?jié)摿Φ奈C械加工技術(shù)。紫外光的衍射效應(yīng)同時也造成了光刻圖形的失真，影響了其加工精度的提高，這使得它的實用性受到了一定的影響。為了獲得高精度的光刻膠微結(jié)構(gòu)...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 姐很拽不要愛哥很壞埋了愛 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 11人氣
本文通過沉淀聚合合成了聚甲基丙烯酸CO甲基丙烯酸甲酯CO甲基丙烯酸叔丁酯CO甲基丙烯酸異冰片酯四元共聚物，合成了光產(chǎn)酸劑二苯碘三氟甲基磺酸鹽，在凈化室中以聚甲基丙烯酸CO甲基丙烯酸甲酯CO甲基丙烯酸叔丁酯CO甲基丙烯酸異冰片酯四元共聚物為主體樹脂，以二苯碘三...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 騙自己 / 發(fā)布時間：2024-03-11 / 13人氣
相變光刻（PCL）被認(rèn)為是最有潛力的下一代主流光刻技術(shù)之一，目前用于PCL的光致抗蝕劑多為硫系化合物相變材料，其較低的刻蝕選擇比制約了PCL的發(fā)展。金屬玻璃材料由于優(yōu)異的物理特性，在科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)上得到了廣泛的關(guān)注。本文提出了“金屬光刻膠”的概念，并基...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 你的臉龐 / 發(fā)布時間：2024-03-05 / 5人氣
采用SU8膠的UV光刻技術(shù)是制造MEMS的重要微細(xì)加工技術(shù)之一。SU8膠克服了普通光刻膠深寬比不足的問題同時也克服了LIGA技術(shù)中X射線光源極為昂貴的問題適合于制造超厚、高深寬比MEMS微結(jié)構(gòu)。近幾年基于SU8膠的傾斜UV光刻技術(shù)也得到了飛速發(fā)展。通過傾斜掩模版和光刻膠平...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 兩盞淡酒 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 7人氣
1011414901光刻膠用剝離液組合物2021282196光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法3021422796光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法4021316244反射防止膜的光學(xué)常數(shù)的決定方法和光刻膠圖形的形成方法5021422192光刻膠組合物6021482330光刻膠組合物700...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 畢業(yè)設(shè)計 / 發(fā)布時間：2024-03-12 / 23人氣
準(zhǔn)LIGA技術(shù)由于其成本低、加工過程簡便而倍受微加工制造行業(yè)的高度關(guān)注。本論文利用激光的高方向性和脈沖的可控性分別采用NDYAG二倍頻532NM、三倍頻355NM脈沖激光對SU8膠進行曝光實驗研究高深寬比、曝光精確可控的LASERLIGA新技術(shù)主要內(nèi)容包括兩種不同波長的脈沖激光...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 靜豈懶者徒 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 8人氣
本論文所提出的微尖端陣列無掩模光刻系統(tǒng)擴展了納米加工的手段，是未來光刻技術(shù)發(fā)展的一種趨勢。通過對本系統(tǒng)的研究，無需掩模，微尖端的發(fā)射電流就可直接曝光光刻膠，進行圖形生成及加工，還通過陣列并行直寫大大提高了工作效率。取得的主要研究成果如下1，設(shè)計并制...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 背影都可愛 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 9人氣
隨著IC制造技術(shù)的迅猛發(fā)展，芯片的特征尺寸不斷的縮小，越來越多的分辨率提高技術(shù)RET被用于研磨版的制造，這些技術(shù)大大提高了研磨版的復(fù)雜度，也增加了版圖物理驗證的難度，在65NM及更先進的工藝中，傳統(tǒng)的物理驗證規(guī)則已經(jīng)無法保證最終的良率。因此，在整個設(shè)計流程...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 癡醋 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 4人氣
光在膠內(nèi)的衍射或散射是影響厚膠光刻質(zhì)量的一個重要原因該文基于基爾霍夫標(biāo)量衍射理論和衍射角譜理論建立了可較為真實地描述接觸式接近式光刻中厚膠光場分布的有效方法分析了掩膜的線寬、掩膜到抗蝕劑表面的距離以及抗蝕劑的厚度對光場分布的影響曝光過程抗蝕劑內(nèi)所...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 妖媚 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 4人氣
厚膠光學(xué)光刻具有工藝相對簡單、與現(xiàn)有IC工藝流程兼容性好、制作成本低等優(yōu)點，是用來制作大深度微光學(xué)、微機械、微流道結(jié)構(gòu)元件的一種很重要的方法和手段，具有廣闊的應(yīng)用前景，因而是微細(xì)加工技術(shù)研究中十分活躍的領(lǐng)域。厚膠光刻是一個多參量的動態(tài)變化過程，多種...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 時人 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 6人氣
近年來，空間光調(diào)制器SLM無掩模光刻技術(shù)受到微電子及相關(guān)領(lǐng)域的廣泛關(guān)注。SLM作為無掩模光學(xué)光刻系統(tǒng)的圖形發(fā)生器，可便捷、靈活、并行、低成本和高速地產(chǎn)生曝光圖形，在小批量高精度掩模制作和微光學(xué)器件生產(chǎn)中發(fā)揮了重要作用，在高分辨集成電路制作上也表現(xiàn)出極其...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 燈影 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 6人氣
集成電路的密集程度和性能指標(biāo)按摩爾定律MOSLAW成幾何級數(shù)快速增長，它強力推動著整個IT行業(yè)的高速發(fā)展。光刻技術(shù)在集成電路中有著舉足輕重的作用，是集成電路工業(yè)的“頂梁柱”，是近代信息技術(shù)中的一項關(guān)鍵技術(shù)。光刻技術(shù)中有三大核心技術(shù)，其中掩模硅片對準(zhǔn)是光刻...
下載價格：5 賞幣 / 發(fā)布人： 忘川惡鬼 / 發(fā)布時間：2024-03-10 / 7人氣
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