激光干涉光刻技術.pdf

1、該論文基于光的干涉和衍射及光學全息照相理論,綜合評述了光學光刻的基本原理、主要類型、發(fā)展趨勢及開展激光無掩模干涉光刻和全息光刻研究的目的和意義.深入研究了無掩模激光干涉光刻技術用于高分辨、大視場、深亞微米和納米圖形生成的基本原理、理論、主要類型和實現(xiàn)方法.建立了多光束、多曝光技術,包括雙光束單曝光、雙光束雙曝光、三光束單曝光、三光束雙曝光、四光束和五光束干涉的數(shù)學物理模型,編制了模擬軟件并進行了大量的計算模擬研究,得到很多有用的結(jié)果.建

2、立了無掩模多光束多曝光干涉光刻實驗系統(tǒng),提出了一種采用梯形棱鏡進行波前分割和利用可選擇光闌進行多種多光束多曝光干涉光刻研究的實驗系統(tǒng),進行了干涉光刻實驗研究,對模擬和實驗結(jié)果進行了分析.對影響干涉光刻結(jié)果的主要因素作了深入的分析,研究了提高干涉圖形對比度和周期穩(wěn)定性的方法.對全息光刻的原理、理論、實現(xiàn)方法及傳統(tǒng)光掩?！⒀谀！刮g劑圖形傳遞機理進行了深入的研究,設計和建立了采用直角棱鏡和折射率匹配液的全內(nèi)反射波前共軛全息光刻實驗系統(tǒng),

3、進行了實驗研究.理論研究、計算模擬和實驗結(jié)果分析表明,無掩模激光干涉光刻和全息光刻具有大視場、高分辨率、無畸變、系統(tǒng)相對簡單、成本較低,實現(xiàn)方便等特點,具有廣闊的應用前景.故該文還著重研究了干涉光刻技術的一些主要應用.在微電子、光電子器件、大屏幕平板顯示器、場發(fā)射器陣列、表面聲波器件、光子晶體、光波導陣列、全息透鏡和微光學元件陣列、微結(jié)構(gòu)制造、高分辨、大面積光柵和網(wǎng)格制造,在抗蝕劑性能測試、面形測量和計量等領域,干涉光刻技術都具有廣闊的