漢畫像磚的劣化機(jī)理及保護(hù).pdf

1、漢畫像磚是珍貴的文化遺產(chǎn)。經(jīng)過約兩千年埋藏,地下潮濕的環(huán)境以及土壤中化學(xué)成分對磚材的復(fù)雜作用,磚材在本質(zhì)上發(fā)生了很大變化。目前對出土畫像磚的保護(hù)僅限于清潔和脫鹽處理,深入的劣化機(jī)理研究很少。一些出土畫像磚在館藏期間會出現(xiàn)表面細(xì)微裂縫、表面返堿、酥化等,使畫像很快模糊、成片脫落以致消失,失去了文物價值。因此,從微觀上了解漢畫像磚劣化機(jī)理,并據(jù)此提出合理的保護(hù)措施是極為重要的。
　　本文以出土的畫像磚殘片為研究對象,采用X射線衍射光譜

2、(XRD)、掃描電鏡(SEM)及能量色散X光微區(qū)分析(EDS)等檢測手段分析了畫像磚的微觀結(jié)構(gòu)、礦物學(xué)組成等性能,采用國家粘土磚測量標(biāo)準(zhǔn)分析了吸水、抗鹽、抗融凍性能并以現(xiàn)代青磚和紅磚作對比實驗,初步從基礎(chǔ)上了解了畫像磚的劣化機(jī)理。實驗表明:漢畫像磚經(jīng)歷兩千多年的埋藏后,墓地環(huán)境中的水分、可溶鹽以及微生物等的作用,使得磚的內(nèi)部孔隙變大,吸水率增加,其抗壓、抗鹽、抗融凍性能變得都比較差。因此,本文采用了對疏松、多孔文物保護(hù)方面性能優(yōu)異的有機(jī)

3、硅保護(hù)劑對漢畫像磚進(jìn)行了加固處理。在相關(guān)文獻(xiàn)及本實驗組實驗的基礎(chǔ)上,對該有機(jī)硅保護(hù)劑的實驗工藝進(jìn)行改進(jìn),制得新型的改性有機(jī)硅保護(hù)劑。實驗采用KH560和KH550在常溫條件下反應(yīng),主要考察了KH560和KH550的比例和H2O的加入量對膜的親水性、附著力的影響,優(yōu)化得到實驗的最佳配比,即KH560:KH550:H2O=10:1:2.4(體積比),以濃鹽酸為催化劑,其量為總量的1％-2％。將合成的保護(hù)劑用于漢畫像磚的保護(hù),保護(hù)后研究發(fā)現(xiàn):