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文檔簡介
1、專利撰寫要求撰寫者具有相當?shù)膶I(yè)知識和法律知識,而專利的發(fā)明者往往不具備這方面的知識。同時,專業(yè)的專利代理人員也經(jīng)常會為了難以確切的理解專利的內(nèi)容而造成寫出的專利不夠準確。有好的創(chuàng)新點卻不能寫出高質量的專利申請文件,直接導致了難以在后續(xù)的專利保護上起到應有的作用。或者是申請專利由于技術含量低卻被駁回。這些情況在企業(yè)中尤其嚴重。本文首先對專利授權前景的評價理論做了概述,提出了專利授權前景評價的總體思路和體系結構。然后,在充分理解評價體系構
2、成的基礎上,構架了評價指標體系,分析了各指標的內(nèi)含,提出了各指標的參考標準,接著對評價方法進行對比研究,確定評價方法,最后,提出建立反饋模型用于對評價結果的改進。在本文的最后部分給出了一個事例,利用專利授權前景評價體系和相應的反饋模型對專利的創(chuàng)新點進行了評價和分析。
本文中所述的評價和反饋主要涉及到利用評價方法對要申請專利的創(chuàng)新點進行分析,確定該創(chuàng)新點被授權的可能性,生成一個對專利的評價系統(tǒng),從專家角度去評價專利本身的質量因素
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